二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MCVD #293595634 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MCVD （Metalorganic Chemical Vapor Deposition）反應器是一種用於半導體器件制造過程中外延層生長的高性能、先進的沈積系統。該系統旨在提供卓越的均勻性和薄膜特性,從而實現更高的設備均勻性和更高的性能。AMAT Centura MCVD反應堆采用前沿、通用的設計。它配備了可控的氣體輸送系統，允許精確的氣體分配和控制。這確保了所需的氣體在整個反應堆室內均勻輸送。這種特性還可以更好地控制室內大氣和底物溫度，從而產生更高的質量和更均勻的沈積。該反應堆的設計目的是產生一致和可重復的沈積結果，即使在處理各種底物時也是如此。這是由獨特的MCVD沈積過程實現的，它結合了化學氣相沈積（CVD）和金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）的理想特性。它從適當材料的保形分子層沈積在底物上開始。這個分子層作為進一步沈積過程的模板，作為附加層通過化學手段與第一層反應形成更高的層沈積物。這樣可以增加厚度和均勻度可靠的多層材料，改善表面形態。與其他沈積系統相比,應用材料Centura MCVD反應器具有幾個明顯的優點.它具有較高的沈積速率，允許更快的處理時間。另外，由於氣體輸送的來源多，反應室壁內沒有死區。這導致整個層沈積過程更加均勻。MCVD工藝也極具能效，比其他沈積系統節省了成本。Centura MCVD反應器是多層材料沈積的理想工具。它提供可靠、均勻、高質量的沈積結果，是當今半導體器件制造過程中必不可少的工具。