二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9189048 待售

ID: 9189048
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Poly etcher, 8" C1P2 NBLL (4) MxP, ORT, HP TMP Controller missing 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP Reactor是一個薄膜增長平臺,旨在為當今最苛刻的技術市場經濟實惠地生產高質量、先進的材料。AMAT Centura MxP反應堆使用高能等離子體蝕刻、生長和加工包括矽、SiOx、SiNx、Ge、SiGe和C在內的多種材料。該反應堆設計可容納多達三個沈積室,並提供可定制的配置,不僅具有很高的靈活性,而且具有成本效益。APPLIED MATERIALS Centura MxP Reactor提供了磁控管濺射源和電子回旋共振(ECR)源的選擇,用於高效、低成本的薄膜形成。集成的晶圓處理機器人允許在加工室內進行高效的晶圓和基板安裝和調節。MxP是根據用戶的特定要求進行出廠預配置的,包括材料的選擇和等離子體加工技術。Centura MxP具有多項功能,可最大限度地提高流程效率並降低運營成本。反應堆配備了實時過程監控、雙熱偏置能力和積極的動力控制。通過使用實時過程監控(RTP),反應堆可以立即識別沈積過程中的任何動態變化,並自動調整過程配方以保持過程穩定。此外,雙熱偏置(DTN)允許在等離子體和基板上同時施加電偏置,促進在大面積目標上均勻沈積,並生產高質量的薄膜。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura MxP Reactor標配現成的配方、詳細的過程監控、安全的通訊和先進的等離子診斷,以獲得最高的處理性能。反應堆提供300 mm的最大晶片尺寸,高達1000 °C的最大晶片溫度,能夠產生10.0至1000.0 nm的大範圍薄膜厚度值。AMAT Centura MxP Reactor是許多薄膜沈積應用的絕佳選擇,為用戶提供了開發高性能材料的經濟高效、高度配置的平臺。憑借其可靠的性能、出色的過程控制和高級功能,APPLIED MATERIALS Centura MxP為用戶提供了滿足其最苛刻的過程要求的最佳解決方案。
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