二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9257030 待售
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已售出
ID: 9257030
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
System, 8"
Wafer shape: SNNF
Centura type: Centura 1
No SMIF interface
Chamber B and C: MXP+
Chamber F: Orient
Buffer robot type: HP
Buffer robot blade: Metal
MF Facilities: Bottom
Smoke detector: Alarm
AC Rack type: Phase 1
Controller rack type: Phase 1
Controller to AC rack: 60 Ft
Pump interface cable: 50 Ft
Load lock type: Wide body / Core tool
Wafer detector: Alarm
Wafer sensor
EMO
Monitor and EDP monitor: Wall mount
Controller to mainframe: 60 Ft
RF to Chamber coaxial: 50 Ft
Chamber A, B and C:
Chamber type: MxP+
IHC Type: MKS 1179
Lid type: Clamp
Bias RF match
Magnet driver
Cathode type: Simply cathode
Gate valve: VAT Gate
ESC Type: Polymide
Manometer type: 1 Torr
Slit valve O-ring: Viton
RF Generator bias: OEM-12B
Endpoint system: Monochrometer
Turbo pump: SEIKO SEIKI 301
Throttle valve: Butterfly
No auto bias
Gas configuration for chamber A, B and C:
GAS 1 / CH2F2 / 100 SEC-4400MC
GAS 2 / SF6 / 100 SEC-4400MC
GAS 3 / N2 / 100 SEC-4400MC
GAS 4 / O2 / 100 SEC-4400MC
GAS 5 / CF4 / 150 SEC-4400MC
GAS 6 / CHF3 / 200 SEC-4400MC
GAS 7 / AR / 200 SEC-4400MC
Gas delivery options:
STEC MFC
Filter: MOTT
Transducer: Core tool
Gas connection: Single line drop
Gas line feed direction: Bottom
Exhaust feed side: BD Side
Transducer displays: Core tool
Regulator: Core tool
Valve: Core tool
Gas line feed side: AC Side
Exhaust: Top
(2) Chillers:
NESLAB HX150 Heat exchanger for cathode and wall
W/RS-485 Interface
Chiller hose size: 3/8 Quick
Generator rack and chiller valve connection: Manifold
Transformer: 208 / 400 A
Line frequency: 60 Hz
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+是一種專門的PVD(物理氣相沈積)反應器,設計用於大批量生產和金屬和復合膜的沈積。設備的模塊化設計允許靈活和可擴展的過程配置,同時提供卓越的產品統一性和較高的過程吞吐量。固定式多面板工藝室由不銹鋼制成,具有獨特的形狀,可以使材料在整個晶片上高效傳熱和均勻沈積。AMAT Centura MxP+反應堆受專有氣體凈化系統保護,該系統使用擴散器過濾過程環境中的汙染物,從而使材料生長更加一致。該裝置配備了一套強大的控制和監控功能,包括高分辨率實時處理計算機、可調溫度板和帶集成快門的電子束槍,用於精確沈積控制。此外,還有三個獨立的離子源,可以進行精確的表面清潔和高能蝕刻。其他功能還包括多驅動器機器,它可以提供快速的基板加熱和冷卻,以及驅動器優化的高厚度均勻性。此外,內置氣體監測儀可以實時檢測低量氧氣和其他雜質,有助於確保晶圓質量的一致性。應用材料Centura MxP+反應堆的建造符合目前的SEMI操作和安全標準。它的內部傳感器在正常操作期間檢測工具中的任何故障,並向監視器發送警報。此外,先進的SEMI S2工廠自動化協議確保了對資產安全的持續監控,能夠檢測和防止任何意外的可燃氣體爆炸。Centura MxP+反應堆除了易於操作和維護外,還采用先進技術進行精確的厚度控制。該模型的集成模塊「過程自動化層」(PAL)根據給定參數自動調整過程流,以達到最優的過程均勻性。PAL能夠將沈積速率和輪廓微調至1 nm分辨率。這樣可以實現最大的表面平面度和產品質量,而不會影響吞吐量。總體而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+是一種高性能PVD反應器,設計用於大批量生產和金屬和復合膜的沈積。它提供了強大的控制和監控功能,精確的厚度控制,並且已經構建符合當前的安全標準。該設備還易於操作和維護,其先進的特點使其成為半導體和先進包裝應用的理想選擇。
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