二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9262650 待售
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已售出
ID: 9262650
優質的: 1999
Dry etcher
(3) Chambers (Poly + Poly + Oxide)
(2) Heat exchangers
NESLAB
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP Reactor是一種用於薄膜沈積的最先進的PECVD(等離子增強化學氣相沈積)工具。它旨在為各種基材形狀和尺寸提供卓越的覆蓋均勻性。MxP反應器由真空室、電極組件和射頻電源組成。真空室設計為防漏密封,允許在汙染最小的情況下沈積高質量薄膜。該腔室具有耐高溫(HTR)襯裏,以防止內部受損。電極組件包括兩個具有可調電壓和電流設置的平面電極,允許微調處理參數。射頻電源包括一個可調頻率,從而實現高沈積速率.MxP反應器既靈活又可靠,非常適合各種高精度薄膜沈積任務。MxP反應堆能夠沈積範圍廣泛的材料,包括但不限於矽、多晶矽、氮化矽和砷化氙。反應堆的熱性能也很好,具有精確的溫度控制能力,在各種形狀和大小的基板上提供均勻的沈積速率。MxP反應堆還具有良好的等離子體蝕刻選擇性,允許從基板上均勻去除不同的材料,而不會對整體結構造成任何損害。MxP Reator的等離子體蝕刻選擇性由於其易於使用的腔室清洗設備和雙通道氣體升華系統而進一步增強。MxP反應堆的堅固設計也脫穎而出,內室由不銹鋼構成,外殼由鋁合金制成。這使得一個輕巧和堅固的單元,能夠在最小的維護長期運行。MxP反應堆還設有一個方便的顯示屏,可提供有關腔室溫度、壓力和工藝條件的清晰易讀的信息。方便的監控單元使操作員能夠實時跟蹤整體性能,讓他們有信心執行高精度的薄膜沈積任務。總而言之,AMAT Centura MxP反應器是一種可靠、用途廣泛的PECVD機器,非常適合在各種底物上沈積薄膜。它具有出色的散熱性能和等離子體蝕刻選擇性,以及長期運行而不需要過度維護的堅固設計。方便的顯示屏允許操作員實時監控整體性能,提供對沈積過程的全面控制。
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