二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9290475 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP是一種先進的柔性區等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器,設計用於半導體器件的加工和生產。AMAT Centura MxP反應堆能夠同時處理多達六個晶片,為薄膜和多層堆棧的生產提供了可靠、經濟高效的平臺。APPLIED MATERIALS Centura MxP具有先進的等離子體控制、精確的溫度均勻性和即時的工藝優化功能,以確保卓越的薄膜均勻性和質量。反應堆能夠產生多種材料,包括SiO2、Si3N4、SiN、Ta2O5、TaN和Al2O3。反應堆配有兩個獨立的等離子體源,使得具有復雜材料成分的薄膜能夠形成多層堆棧和多重脫鉤過程。Centura MxP使用多個幾何形狀來確保整個晶圓表面的精確溫度均勻性。反應器的高長寬比可以在整個晶片表面上進行均勻的蝕刻和沈積。這樣就可以對高縱橫比特征(如溝槽和組合結構)進行均勻的蝕刻和沈積。該反應堆還具有先進的溫度控制功能,具有可調氣流,以及基於溫度的自動校準序列,以實現精度和可重復性。它還配備了真空泄漏檢測系統,以提高安全性和可靠性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP為精確的薄膜沈積和蝕刻提供了最高的工藝可靠性、工藝性能和成本效益。它非常適合於MEMS的制造、先進的互連以及其他一些具有挑戰性的微制造應用。反應堆的最先進的設計允許一個簡短的學習曲線和快速納入任何生產設施。
還沒有評論