二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9293856 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）反應器是一種生產規模先進的沈積設備,旨在實現高速率、低溫的薄膜沈積。該系統專為生產高性能光電元件和其他需要在低溫下快速沈積的應用而設計。PECVD單元由一個反應堆室、一個獨立的等離子體源和一系列控制過程配方的控制器組成。在腔室內部，等離子體是通過對一對陶瓷電極施加高頻電源產生的，創造了高溫高壓的環境。然後用這種環境生成化學反應物，化學和熱相互作用，在底物的暴露表面形成薄膜。AMAT Centura MxP+擁有先進的冷卻機，允許對工藝室和基板進行快速冷卻。利用冷卻工具，可以維持和調整溫度，以滿足每一個沈積過程的具體要求。此外,資產還具有一系列控制器,用於控制沈積過程的各個方面,如工作壓力、功率水平和薄膜溫度。這些特性的結合使模型能夠達到高達每分鐘200海裏的沈積速率。在工藝能力方面，APPLIED MATERIALS Centura MxP+可以在低至50°C的溫度下沈積金屬和金屬氧化膜以及有機和介電材料。這樣就可以生產高性能的光電元件，而無需高溫，使得該設備非常適合應用，包括生產太陽能電池、OLED顯示器和其他應用的超薄膜。Centura MxP+還具有一個集成的平面磁控管源,用於產生氮、氦和其他等離子體,用於需要高速度蝕刻、灰化和沈積過程的應用。此外，該系統還包括一個高級監測和數據收集股，向用戶提供整個過程的詳細情況以及最後的後處理結果。總體而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura MxP+是一臺堅固、先進的PECVD機器,它為生產高性能光電元件、太陽能電池、OLED顯示器和其他應用程序提供了獨特的解決方案。AMAT Centura MxP+具有一系列的工藝功能、先進的控制器和集成的磁控管源,可為用戶提供基於等離子體的沈積工藝提供一個功能強大、經濟高效的選項。