二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PE CVD #9116532 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PE CVD（等離子體增強化學氣相沈積）是一種功能齊全的單晶片反應器，設計用於在多晶矽、矽和其他基板上進行高質量的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）。PE CVD工藝基於兩種或兩種以上氣體通過等離子體施加到基板上。源氣體通常是矽烷（SiH4）用於多晶矽膜的生長，或乙硼烷（B2H6）用於氮化矽膜的生長。氣體通過氣體分布歧管輸送到反應室中，形成薄膜的反應性物質由微波發生器驅動的兩個或多個電極之間形成的等離子體產生。AMAT Centura PE CVD設備提供了廣泛的工藝能力，包括能夠在大面積上沈積高質量的薄膜，高通量，以及等離子體均勻分布在基板上。等離子體是通過電極組件產生的，該組件由兩個介電環和位於晶圓周圍的幾個鎢嵌件組成。等離子體通過自動狹縫環系統被引導到基板，確保均勻高效的氣體輸送。氣體輸送裝置利用可變氣體輸送閥和預校準氣體註入點等專利技術，保證高通量和低沈積非均勻性。微波發生器能夠提供高達20 kW的射頻功率，在底物上產生所需電子密度的等離子體，以確保膜的均勻生長。Centura還具有專門的過程監測和診斷功能,如原位診斷光譜,以確保最高質量的沈積。機器配有控制器單元，使用戶能夠實時監控和管理流程參數。APPLIED MATERIALS Centura PE CVD工具旨在提供卓越的工藝一致性和薄膜生長特性。它對沈積過程提供自動化的化學管理和精確的控制，如溫度、時間、壓力和氣流。憑借其強大的設計,該資產能夠長時間可靠地運行,並且可以輕松地重新配置以滿足各種生產需求。