二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Phase II #9281493 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Phase II
ID: 9281493
MXP System.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Phase II是一種高效、中等通量的反應堆設備,在制造半導體器件時提供高質量、過程可重復性和生產率。AMAT Centura Phase II專為高級半導體工藝的大批量制造而設計,用於各種應用,如;柵極蝕刻、層間電介質(ILD)沈積、蝕刻止動疊層、氮化物溝槽填充集成、n型擴散屏障層。APPLIED MATERIALS Centura Phase II能夠處理各種大體積沈積過程,從而能夠生產結構復雜、可重復性和可靠性高的設備。與傳統的設備解決方案相比,反應堆的工藝靈活性使客戶能夠適應廣泛的工藝目標。Centura Phase II配備了獲得專利的雙盒式負載鎖定系統,可減少加載和卸載時間(最低15秒),真空完整性不受影響。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Phase II進一步配備了多區域溫度控制模塊,可實現精確的熱管理、溫度優化和精確的重復性。AMAT Centura Phase II提供了若幹附加功能,包括快速回收沈積後蝕刻,可提供非常高的吞吐量和過程效率。此外,其強大的脈沖模式控制能夠對薄膜厚度進行精確的實時控制,而不會對制造高質量薄膜的反應參數進行任何重新調整。此外,全自動交付單元結合了十幾個與流程相關的參數,可以從主機PC進行遠程監控和配置。除此之外,APPLIED MATERIALS Centura Phase II還包括一個堅固的硬件平臺,該平臺具有均衡的工藝室壓力和整體的機器性能,從而提高了腔室清潔溫度、循環時間和沈積均勻性。Centura Phase II還支持批處理和緊急工作負載以及延長的操作周期,並減少了停機時間。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Phase II是高容量半導體制造的理想解決方案,對於生產高質量、可靠、工藝重復性好的器件具有很高的可靠性。該工具提供高吞吐量、低溫操作和經濟高效的、特定於過程的修改(根據需求)。
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