二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293625549 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是一種高精度、高性能的物理氣相沈積（PVD）設備。該反應器設計用於處理基板上的薄膜層，如半導體產品，以較高的沈積速率和較低的基板溫度。該系統能夠沈積多種材料，包括金屬氮化物、金屬氧化物和多晶矽。該單元采用熱壁石英室，尺寸為10.2英寸，底壓為100 Torr。反應器室還包括一根嵌入的細絲，用於金屬薄膜的沈積。內置氣體流動機設計用於均勻的氣體分布和精確控制流速，並提供精確劑量的沈積氣體。該反應堆由一個獲得專利的熱交換器工具提供動力，該工具利用三個熱效率高的氣流通道來維持精確的工藝溫度，同時將功耗降至最低。APPLIED MATERIALS/AMAT Centura PVD Reactor還配備了用於精確端點檢測的高分辨率數碼相機資產和用於獨立過程控制的變速控制器。該模型還附有一個過程中的診斷設備，提供反應堆狀態的實時信息。內置無線接口允許與計算機等外部設備通信，從而能夠在系統運行時收集和處理反應堆數據。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor提供多種安全功能，例如密碼保護和用戶認證，以確保安全運行。該裝置還配備了一系列環境傳感器，包括溫度和壓力傳感器，用於監測和控制操作條件，以提高安全性。綜上所述，AMAT/Centura PVD反應器是一種高度精確和可靠的PVD機器，能夠在降低的溫度下實現精確的薄膜沈積。反應堆具有許多功能，如嵌入式燈絲、高分辨率數碼相機工具和實時診斷資產，可輕松、安全地提供完整的過程控制。