二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9239622 待售
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ID: 9239622
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Sputtering system, 8"
Size: 8φ
GAMMA 2 TiN (ESC) Film formation chamber
Missing parts:
Electrostatic chucks: CH-A, CH-B
(2) Ion gauges
Seal cap
Spark generator
(2) Heater drive motors
Matcher
(2) Generators
Cool cover
SBC
Heater driver
Ion gauge ribber
3 KVP/S
Floppy disk drive (FDD)
D-I/O Board
A-I/O Board
(2) ISO/AMP Boards
Robot indexer cable 1P
CRT
NESLAB
3 KVP/S Controller
Etch hub: Rough piping between etch chambers
Etch pump: Power cable between etch chamber
Pico fuse 12 A.
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是一種物理氣相沈積（PVD）工具，設計用於將薄膜沈積在具有極好均勻性的基板上。它采用先進的多軟管和多槍技術，將均勻的、薄薄的材料層沈積到基板上。該工具的高沈積速率使其適用於廣泛的應用，包括半導體器件制造、微電子封裝、醫療器件生產、光學塗層沈積。AMAT Centura PVD反應堆占地面積小，設計用於各種設置和配置。它是一種具有一系列過程控制功能的高吞吐量機器。應用材料Centura PVD反應堆的過程氣體輸送系統旨在確保最佳的氣體流量和霧化分布，以實現最大的沈積均勻性。綜合排氣系統可有效地排出揮發物，並確保沈積環境的質量和清潔。反應堆還設有閉環溫度控制系統，用於精確的溫度管理。Centura PVD Reactor提供了優於其他PVD工具的沈積均勻性。該反應堆具有優良的材料裝載和分散能力，可用於精細粒化、精密的各種來源材料（金、銀、鋁、鈦、鋅等），並且可以在任何理想的組合中沈積各種金屬和合金。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor的設計目的是盡量減少顆粒撞擊基板表面，確保一貫光滑和均勻的沈積層，即使在處理極薄的材料時也是如此。AMAT Centura PVD反應堆采用先進的自動化和控制技術來確保最佳的過程控制。它內置的腔室過程監測和控制功能允許在整個過程運行過程中進行精確控制。該工具還具有自動反應室設置菜單，便於快速調整配方設置，並節省時間和材料。SPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是滿足大容量、生產規模薄膜沈積需求的理想解決方案。憑借其卓越的均勻性、精密的工藝控制和可靠的自動化，它可以用於制作精密薄膜，用於各種需要極薄和均勻層的應用。
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