二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244066 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是一種高效率的等離子體薄膜沈積設備，設計用於高質量的多層薄膜塗層。AMAT Centura PVD Reactor生產具有優異屏障性能的高均勻、超薄膜塗層，非常適合電子器件的光學塗層、防護塗層等應用。反應堆采用多頭直流放電等離子體源進行金屬離子源引入，采用圓柱形等離子體室進行沈積。腔室設計成同心模式，正負電源分別位於底部和最上部。反應堆中使用的反應性氣體有氫氣、氙氣、氙氣、霓氣和六氟化硫。反應堆利用了一種稱為「濺射蒸發」的先進的基於等離子體的沈積技術，其中高能離子（典型的氙氣或氙氣）由高壓電源通電。通電的離子隨後被引導到沈積在位於反應堆底部的基板上的基板上。高能離子將沈積的物質排出，然後沿著等離子體室的壁濺射。到達基材後，材料發生化學反應，形成薄膜塗層。應用材料Centura PVD反應堆使用了多種技術來確保優異和可靠的結果。「浮動基板」技術即使在大面積上也能產生均勻的薄膜沈積速率。Centura利用創新的「線性直流電」源提供一致的等離子體密度。反應堆能夠實現高度精確的溫度控制和均勻的薄膜厚度，甚至跨越復雜的形狀。該系統還具有一系列自動氣體管理和預測健康監測能力，使設備能夠安全高效地運行。最後，Centura PVD反應器是一種高精度薄膜沈積機，設計用於生產高度均勻的多層薄膜。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura PVD反應堆除了具有出色的屏障性能和均勻的薄膜厚度外,還利用多種技術來確保可靠的結果和高質量的薄膜沈積。