二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9266097 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD是為高性能薄膜沈積應用而設計制造的先進物理氣相沈積（PVD）反應器。該設備可實現非常精確的薄膜增長,包括一系列功能,旨在保持精確度和可重復性,同時提供高生產率和生產產量。AMAT Centura PVD的特點是有一個單獨的工藝室，在其中發生薄膜沈積，真空環境用於維持工藝純度，以及一組基於運動的硬件組件，用於基本材料運輸和底物意圖操縱。該系統高度自動化，包括一整套傳感器、自動化過程和控制沈積過程的計算機控制系統。機櫃集成式電腦提供全方位的控件和單元參數，並提供背面軟件包，方便連接和控制。APPLIED MATERIALS Centura PVD機包括原子層沈積（ALD）和脈沖激光沈積（PLD）等高級沈積過程。ALD可以形成薄薄的材料層，而PLD用於鋼、非合金金屬和合金的生長。該室配有一個用於介質輔助沈積的進入窗口，允許將來自外部環境的目標材料引入加工室。該工藝用於金屬、陶瓷和聚合物的快速沈積以及濺射蝕刻操作。Centura PVD工具配備了多種氣體和氧氣入口能力，用於將特定氣體引入工藝室。這樣可以優化基板表面的化學性質和穩定性。能夠監測和控制室內溫度、壓力和氣體混合,使材料的增長能夠滿足客戶的特定要求。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura PVD還具有多種高級診斷功能,可確保可重現的過程結果。這包括原位和異位診斷工具的廣泛組合，可精確控制生長過程和基質形態控制。資產還具有全方位的安全系統，如自動關機，以保護設備免受損壞或事故。AMAT Centura PVD模型為各種薄膜沈積應用提供了先進的高性能平臺。其強大的設備組件、自動化過程、高級診斷和安全功能,以及復雜的定制功能,使其成為滿足各種研究和生產需求的理想系統。