二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Radiance #9094639 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance是目前最先進的等離子體蝕刻系統之一。它是為半導體器件的超高縱橫比制造商設計的蝕刻反應器。反應堆是一種用途非常廣泛的工具，提供單一和多室配置以及各種蝕刻工藝。該設備能夠以適度的蝕刻速率實現低於100納米的分辨率。AMAT Centura Radiance反應堆配備了幾個特點，讓腔室以廣泛的蝕刻化學和蝕刻方法執行。電子回旋共振（ECR）技術產生極均勻的等離子體，而光束輔助沈積（一種根本性的新技術）則確保所有沈積在腔內的材料都處於極均勻的厚度。應用材料Centura Radiance反應堆的工作原理是將氣體等離子體引入室內，創造一個通電的高反應性環境。然後將這種氣體等離子體用於蝕刻過程，溶解被蝕刻的材料以達到所需的輪廓。反應性離子蝕刻允許操作員使用多次通道控制蝕刻深度和輪廓，高能等離子體增加蝕刻速率。這也使用戶能夠為每個應用程序選擇適當的蝕刻速率。憑借其先進的特點，Centura Radiance反應器可用於廣泛的蝕刻應用，從高長寬比的模具金屬互連到用於光學測試的納米結構。該系統在高介電常數（k）蝕刻和MEMS制造中也有應用。Core AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance蝕刻單元由四個獨立組件組成：易於使用的前端接口、堅固的真空機、獨特的石英蝕刻室和智能、高精度的控制工具。這種組件組合為蝕刻應用程序創建了一個強大的平臺。高性能光譜儀、高分辨率數字光學資產、化學分析能力也被用於控制和監控蝕刻過程。AMAT Centura Radiance提供可靠的、可重復的蝕刻結果,具有廣泛的蝕刻化學特性。無論是單面蝕刻還是雙面蝕刻、高長寬比還是高工藝均勻性、全晶片蝕刻或線型蝕刻,APPLIED MATERIALS Centura Radiance都能滿足具有挑戰性的蝕刻要求。這種蝕刻反應堆是開發高性能半導體器件的有力工具。