二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE #9188733 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP XE是一種多任務反應性離子蝕刻（RIE）反應器，設計用於高縱橫比微機械加工和蝕刻應用。反應堆由感應耦合等離子體（ICP）源、磁控管濺射電源、過程控制面板和過程室組成。ICP源產生等離子體，除獨立控制所有RF源外，還包括一個由RF發生器供電直至400kHz的諧振器。雙頻磁控管濺射源由一個平面和一個圓柱形磁控管組成，能夠為每一個磁控管提供高達200W的功率。使用雙頻率允許沈積厚度均勻的層。過程控制面板由高速計算機供電，包括實時參數反饋的圖形用戶界面。這使得復雜的工藝配方易於設計和修改。該面板還允許操作員監視和控制蝕刻過程,包括設置所需的蝕刻速率、蝕刻選擇性、蝕刻均勻性、沈積速率和工藝配方。該工藝室采用耐化學、高溫靜電持晶片支撐，確保整個晶片邊緣均勻蝕刻。該工藝室還具有先進的周邊氣體分配板，用於分配工藝氣體，以實現定向控制的蝕刻性能。這允許對高縱橫比特征進行淺蝕刻。除了增強的工藝性能外,AMAT Centura RTP XE還提供了改進的工藝穩定性和可靠性。它有一個集成的溫度控制系統，提供一個精確的溫度設置在腔壁，確保更一致的蝕刻結果。結合這些功能,操作員可以實現高產生產一致性,同時減少工藝時間和成本。