二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP #9390840 待售

AMAT Centura系列反應性離子蝕刻（RTP）工具是一種多功能、高性能的雙室反應堆，設計用於半導體行業的深亞微米工藝。它配備了超高真空（UHV）腔室，允許輸送超純蝕刻氣體混合物，以優化工藝性能和可重復性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP工具使用等離子體反應器，該等離子體反應器產生和控制等離子體以精確蝕刻各種材料。等離子體由高頻電源結合合適的氣體混合物產生，產生所需的產物形態。該工具利用平面感應源來控制等離子體的能量，從而產生優越的蝕刻速率和選擇性性能。這樣可以有效地利用能源和縮短加工周期時間,提高產品產量並降低成本。AMAT Centura RTP還具有最先進的過程控制功能,如自動壓力和流量控制,可實現高度的可重復性和過程魯棒性。APPLIED MATERIALS Centura RTP配備了可伸縮晶圓處理設備，設計用於在加工過程中與工藝室隔離，從而提高了可重復性和產量。該工具用於深亞微米加工，耐受介電蝕刻速率和材料選擇性。其雙腔室設計允許鋁金屬和聚矽層的分離處理。Centura RTP具有極高的吞吐量,可提供多種配置,以滿足不同生產需求。該系統具有手動和自動遠程等離子體清洗（RPC）功能。RPC單元用於在加工室內時清潔晶片表面，防止顆粒在蝕刻過程中粘附在晶片上。RPC機還防止了室壁上有機材料的堆積，減少了頻繁維護的需要。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP是一種多功能工具,具有極好的選擇性-蝕刻速率比。其高性能特性，如RPC功能，使其成為半導體行業深亞微米工藝的首選蝕刻工具。該資產專為高吞吐量、可重復性和可靠性而設計,使其成為蝕刻過程的經濟高效選擇。