二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9189127 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP是一種用於半導體器件制造的高密度等離子體（HDP）沈積工藝的反應器。HDP設備產生超密、均質、低溫等離子體電位，增強了薄膜沈積均勻性和質量。HDP系統還具有高功率密度，可提供精確的離子通量控制、穩健的操作和出色的均勻性。此外，AMAT Centura Ultima HDP采用先進的等離子體源設計，允許廣泛使用等離子體化學物質。HDP單元是為高通量制造而構建的,可提供非常快速的處理時間。HDP反應器是為先進的高密度過程（HDP）沈積而設計的，使得各種薄膜的應用成為可能，包括薄的柵極氧化物、柵極堆膜、柵極間隔器、柵極線延伸和矽化物。此外,APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA+HDP的等離子體源設計可實現精確的離子和蝕刻過程控制,確保快速、精確的離子通量和蝕刻速率控制,最大限度地減少臨界尺寸變化,減少顆粒汙染,提高細線分辨率。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA+HDP設計為既方便用戶又資源高效,具有直觀的軟件界面和閉環過程控制功能。這種集成的過程控制能力確保了高效的操作，保持了最佳的過程性能並提高了設備的產量。HDP反應堆的自動化機器設計還允許遠程監控和完全可追蹤性，以減少停機時間和提高效率。Centura Ultima HDP還具有高級過程監視和控制功能,可進行動態過程調整,從而能夠在整個過程中精確控制過程的化學性質、遮罩溫度和表面損壞。此外,該工具還提供高級診斷工具,如駐留配置文件和粒子監控,以幫助操作員調整和優化過程參數,從而提高設備性能。CENTURA ULTIMA+HDP是用於半導體器件制造的高密度等離子體薄膜沈積的最先進的資產。它提供精確的離子通量和蝕刻速率控制，快速的過程時間，高效的操作，以及先進的過程監測，以提高設備產量。該模型是為用戶友好、資源效率和整體工藝優化而設計的，是現代HDP沈積要求的理想解決方案。