二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9206450 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP是一種下一代高密度等離子體（HDP）反應器，設計用於先進的半導體制造。該反應堆能夠處理高質量晶片，汙染風險最小，擁有成本低。它結合了創新的設計、先進的技術和高精度，實現了一流的等離子體性能。Centura Ultima的HDP平臺采用了多種腔室配置和工藝技術。這些包括反應性離子蝕刻（RIE）、感應耦合等離子體（ICP）和高密度等離子體（HDP）過程。HDP工藝利用兩種獨立的能源，其中一種是高密度等離子體能源，可以達到超過10,000 ℃的溫度。其他來源是通用電源，用於各種大氣過程，如灰燼和等離子體清洗。為確保摻雜水平一致，AMAT Centura Ultima HDP采用了先進的深紫外線照明設備。這種深紫外線系統減少了摻雜水平的變化，增強了摻雜輪廓的可重復性。此外，Ultima HDP反應堆可以在高達7 Torr的擴展壓力範圍內運行，這允許處理氧化物介電層。HDP反應堆采用多種現場監測系統，對參數控制提供實時反饋。這種實時控制允許快速優化過程參數,從而確保最高的生產率。該裝置還裝有一個高靈敏度的潔凈室傳感器，利用低海岸化學檢測機檢測任何粒子或氣體的存在。Ultima HDP反應堆設計效率最高。配備了用於工藝真空的集成高效渦輪泵、多種工藝和潔凈室監控系統，以及強大的電機驅動單元。此外,該工具還配備了一個集成的冷卻和加熱設備,可在寬溫度範圍內運行,而不會影響性能。總之，應用材料CENTURA ULTIMA+HDP反應堆是一種先進且經濟高效的等離子體處理模型，能夠提供市場上所有HDP反應堆的最高性能。它能夠產生高質量的結果，汙染風險最小，擁有成本低。此外，該反應堆的設計效率最高，並配備了最先進的監測系統和強大的電動機驅動器。該反應堆非常適合任何希望將其生產能力提升到一個新的水平的半導體制造設施。