二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus #9046180 待售
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已售出
ID: 9046180
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
CVD, 8"
Main body:
3-Chamber
Signal tower: 3-Color
Door interlock sensor
Wafer OF type: Falt type
Process chamber:
Dome heater cooling type
Ceramic ESC: WTM
Top mount remote plasma
Generator type: ENI
Local match box
Heat exchanger: SMC
Dual IHC control
Main frame:
Loadlock body: Wide
Wafer sliding sensor
Cool chamber slot: 8-slot
HP Extend robot: One ARM
Gas panel:
Cabinet exhaust: Top
Single line drop
Gas line feed: Top
Monitor:
Third: Station
Maint: Others
Missing parts or Detaching parts list:
(3) Gas ring 0010-02616
(2) Silt valve plate 0010-20021
(1) TGV trottle valve 0020-12521
(1) RPS Al GAS line 0050-46867
(2) Ceramic dome 0200-18062
(3) TGV sol v/v ass'y 3870-01649
(1) Cold loop flow sensor
(1) NF3 MFC (2L)
(1) Top Ar MFC (50 sccm)
Packing list:
Main system
Power AC rack
Rf generator rack(eto)_1
Rf generator rack(eto)_2
Rf generator rack(eto)_3
Rf generator rack(eto)_4
Rf generator rack(eto)_5
SMC chiller
Monitor
Currently installed
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus是一種功能強大、全自動、高通量的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於生產聚焦、高質量的薄膜。該設備采用最新的CVD技術,用於各種材料的沈積,包括纖薄電介質、半導體和金屬表面。該系統采用最新的過程控制方法，如先進的氣體和溫度控制，以最大限度地提高吞吐量，提高生產率和可重復性。此外,該單元還能夠生產各種新型納米結構和微觀結構,從而實現新的設備體系結構。機器的核心是一個創新的多區CVD反應堆，一個三室設計，單個大批量室。這種腔室使各種材料的沈積高度均勻，分布範圍廣泛，從3「到8」不等。該工具還能夠處理各種沈積配方，包括粉末和PLD來源的前體，以改進工藝控制。通過先進的氣體輸送系統和快速晶圓旋轉，進一步優化了沈積速率。AMAT Centura Ultima Plus還能夠進行高度精確的厚度控制和復雜的結構形成,從CMCVD特征到圖案化電線。APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus還具有自動晶片裝卸功能,具有先進的氮氣凈化資產,確保了避免晶片汙染的超清潔環境。此外，該模型采用先進的光學設備對工藝條件進行實時監測。安裝單個Centura Ultima Plus每天可處理數千個晶圓,並通過實施先進的排氣處理和回收系統最大限度地提高產量。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus是生產聚焦高質量薄膜、納米和微觀結構的理想系統，也是處理材料復合材料和納米顆粒應用的最佳選擇。該設備在廣泛的生產環境中表現出色,其自動化功能最大限度地提高了過程速度和統一性,同時為您的生產線提供了價值。
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