二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 待售
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ID: 116326
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
CVD-HDP system, 8"
Wafer shape: SNNF
SMIF: no
Chamber A: Ultima TE
Chamber B: Ultima STD
Chamber E: MS cool
Chamber F: orienter
Load lock type: wide body
Chamber A:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 4 hole ALN
Turbo pump: STP-XH 2603P
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: Top Mount RPS AE
ESC: without WTM
Chamber B:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 1 hole ALN
Turbo pump: ET1600WS
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: microwave
ESC: without WTM
Electrical:
Line frequency: 50/60Hz
Line voltage: 200/208V
Line amperage: 320A
Facility UPS interface: yes
GFCI: 100MA
System monitor:
1st: TTW
2nd: stand alone
3rd: yes
Mainframe:
System placement: TTW
Robot type: extended HP robot
Robot blade: ceramic
Load lock wafer mapping: enhanced
Load lock slippage sensor: yes
N2 purge type: STEC 4400M
Generator rack:
ETO 80-S09-uW
ENI AM200
Ch. A: Top / side / bias
Ch. B: Top / side / bias
(2) Heat exchangers:
1: SMC
2: AMAT 1
Umbilicals: 55ft
Dry pumps:
Chamber A: under cleaning
Chamber B: under cleaning
Load lock
Transfer
Gas delivery option:
VALVES: FUJIKIN 5 Ra max.
Filters: Pall
Transducers: MKS with display
Regulators: VeriFlo
Single line drop (SLD): yes
SLD gas lines feed: top
System cabinet exhaust: top
Gas pane configuration:
Chamber A:
O2 500sccm UNIT 8161
AR 300sccm HORIBAR
SiH4 200sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
SiH4 50sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
AR 1slm STEC 7400
NF3 2lm UNIT 8161
Chamber 4:
O2 400sccm STEC 7440
AR 300sccm STEC 7440
SiH4 200sccm HORIBAR
50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440
AR 50sccm STEC 7440
SiH4 20sccm STEC 7440
50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440
NF3 2slm HORIBAR
AR 2slm STEC 7440
O2 not shown
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE (Tri-Energy)是一種半導體加工反應堆,設計用於半導體材料的沈積。反應堆具有獨特的Tri-Energy (TE)設備,提供高通量,同時保持高水平的工藝均勻性。三級加熱系統提供比以往任何時候都更高的準確性和可重復性,使產量和可靠性達到最高水平。AMAT Centura Ultima TE具有超高溫沈積能力。它使用射頻(RF)單元,用感應、對流和輻射加熱的精確定制組合來加熱晶圓。這使反應堆能夠處理高溫過程中使用的揮發性和反應性材料,並獲得具有優越電和熱特性的沈積層。此外,反應器還具有獨特的雙模惰性襯裏,可保護元件免受沈積副產物和殘留物的影響。APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE還附帶內置硬件和軟件,使過程更加輕松和精確。TE機利用板載直觀的觸摸屏控制器,用戶可以快速準確地執行各種沈積步驟。此外,TE工具能夠與其他儀器和系統接口,為用戶提供對整個過程的精確控制。反應堆配有多種選擇,使其成為實驗室或生產現場的多功能和強大工具。它可以配置為處理一系列層增長和沈積速度,從超快到緩慢和穩定。此外,其廣泛的溫度控制和高質量的塗層支持多種材料系統和工藝,如氫終止金剛石(HTD)、溶液生長模板(SGT)和原子層沈積(ALD)。Centura Ultima TE是一個先進的反應堆,為半導體工業提供卓越的性能和優異的效果。其先進的加熱資產保證了高工藝均勻性和產量。它與其他系統的接口允許對整個過程進行精確控制。其各種材料沈積選項使其具有處理各種沈積應用的多功能性和能力。此外,其直觀的觸摸屏控制器和雙模惰性襯裏使其成為可靠安全的工具。所有這些特性結合在一起,使得AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE成為半導體加工反應堆的首選。
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