二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 待售

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ID: 116326
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
CVD-HDP system, 8" Wafer shape: SNNF SMIF: no Chamber A: Ultima TE Chamber B: Ultima STD Chamber E: MS cool Chamber F: orienter Load lock type: wide body Chamber A: Nozzle: Side 24 ALN Top baffle: 4 hole ALN Turbo pump: STP-XH 2603P Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr Clean method: Top Mount RPS AE ESC: without WTM Chamber B: Nozzle: Side 24 ALN Top baffle: 1 hole ALN Turbo pump: ET1600WS Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr Clean method: microwave ESC: without WTM Electrical: Line frequency: 50/60Hz Line voltage: 200/208V Line amperage: 320A Facility UPS interface: yes GFCI: 100MA System monitor: 1st: TTW 2nd: stand alone 3rd: yes Mainframe: System placement: TTW Robot type: extended HP robot Robot blade: ceramic Load lock wafer mapping: enhanced Load lock slippage sensor: yes N2 purge type: STEC 4400M Generator rack: ETO 80-S09-uW ENI AM200 Ch. A: Top / side / bias Ch. B: Top / side / bias (2) Heat exchangers: 1: SMC 2: AMAT 1 Umbilicals: 55ft Dry pumps: Chamber A: under cleaning Chamber B: under cleaning Load lock Transfer Gas delivery option: VALVES: FUJIKIN 5 Ra max. Filters: Pall Transducers: MKS with display Regulators: VeriFlo Single line drop (SLD): yes SLD gas lines feed: top System cabinet exhaust: top Gas pane configuration: Chamber A: O2 500sccm UNIT 8161 AR 300sccm HORIBAR SiH4 200sccm STEC 7400 H2 1slm STEC 7400 HE 400sccm STEC 7400 SiH4 50sccm STEC 7400 H2 1slm STEC 7400 HE 400sccm STEC 7400 AR 1slm STEC 7400 NF3 2lm UNIT 8161 Chamber 4: O2 400sccm STEC 7440 AR 300sccm STEC 7440 SiH4 200sccm HORIBAR 50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440 AR 50sccm STEC 7440 SiH4 20sccm STEC 7440 50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440 NF3 2slm HORIBAR AR 2slm STEC 7440 O2 not shown 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE (Tri-Energy)是一種半導體加工反應堆,設計用於半導體材料的沈積。反應堆具有獨特的Tri-Energy (TE)設備,提供高通量,同時保持高水平的工藝均勻性。三級加熱系統提供比以往任何時候都更高的準確性和可重復性,使產量和可靠性達到最高水平。AMAT Centura Ultima TE具有超高溫沈積能力。它使用射頻(RF)單元,用感應、對流和輻射加熱的精確定制組合來加熱晶圓。這使反應堆能夠處理高溫過程中使用的揮發性和反應性材料,並獲得具有優越電和熱特性的沈積層。此外,反應器還具有獨特的雙模惰性襯裏,可保護元件免受沈積副產物和殘留物的影響。APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE還附帶內置硬件和軟件,使過程更加輕松和精確。TE機利用板載直觀的觸摸屏控制器,用戶可以快速準確地執行各種沈積步驟。此外,TE工具能夠與其他儀器和系統接口,為用戶提供對整個過程的精確控制。反應堆配有多種選擇,使其成為實驗室或生產現場的多功能和強大工具。它可以配置為處理一系列層增長和沈積速度,從超快到緩慢和穩定。此外,其廣泛的溫度控制和高質量的塗層支持多種材料系統和工藝,如氫終止金剛石(HTD)、溶液生長模板(SGT)和原子層沈積(ALD)。Centura Ultima TE是一個先進的反應堆,為半導體工業提供卓越的性能和優異的效果。其先進的加熱資產保證了高工藝均勻性和產量。它與其他系統的接口允許對整個過程進行精確控制。其各種材料沈積選項使其具有處理各種沈積應用的多功能性和能力。此外,其直觀的觸摸屏控制器和雙模惰性襯裏使其成為可靠安全的工具。所有這些特性結合在一起,使得AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE成為半導體加工反應堆的首選。
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