二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #116359 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X反應堆是為高性能材料沈積和處理而設計的專用工具。該反應器設計用於廣泛的半導體制造應用，包括場效應晶體管（FET）的制造和薄膜的沈積。與傳統沈積系統相比，Ultima X提供了許多優點，包括更高的吞吐量和更小的特征尺寸。Ultima X反應堆是一種垂直、不受束縛的工具，意味著整個腔室安裝在單個基板上，以盡量減少汙染。它具有兩個獨立的蝕刻/沈積工藝室，包括一個大功率等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）室和一個低電阻物理氣相沈積（PVD）室，提供了在每個腔室中單獨控制工藝條件的能力。例如，PECVD室的最高溫度範圍為350至600攝氏度，過程氣體壓力範圍為16至300托爾。PVD室的溫度高達400攝氏度，過程氣體壓力為1至10托。Ultima X還有一個負載鎖定設備，可以在不暴露於環境空氣的情況下處理基板（通常是矽片）。這樣可以確保基材在進入加工室之前受到的汙染最小。此外，Ultima X支持先進的光刻技術，如雙曝光光刻，以及晶圓定向感測，用於啟用步進和重復的工藝模式。除了提供卓越的性能外,Ultima X系統還提供了一系列安全功能,例如,在發生過程錯誤時自動關閉緊急設備,以及一臺壓力監控機器,該機器可防止刀具在特定過程參數之外運行。主室表面還有一個集成鈍化資產，這有助於減少粒子或殘留物的機會。最後，AMAT Centura Ultima X反應器是為高性能半導體制造而設計的先進工具。由於其先進的蝕刻和沈積過程,它提供了比許多其他系統更高的吞吐量和更小的功能大小。它還具有幾個安全特性，確保以安全和受控的方式運作。