二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9220219 待售
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已售出
ID: 9220219
CVD System, 12"
Mainframe: Centura ACP
(2) PSG Chambers
Components:
(2) RF Generator racks
AC Rack
(2) SMC HX
FI
Missing parts:
(2) ESC, P/N: 0040-48594
(2) BIAS Matches, P/N: 1110-00056
(2) RPS, P/N: 0190-24886
(2) Turbo pumps, P/N: 3620-00376
(2) Turbo controllers, P/N: 3620-00377
(2) Domes, P/N: 0200-01347
(2) WTM Probes, P/N: 1150-01028
(2) Throttle valves, P/N: 0010-29980
FE Server, P/N: 0090-04434
FI Server, P/N: 0090-04332
RT server, P/N: 0090-04468
Buffer robot driver, P/N: 0090-01972
UPS, P/N: 0190-22273
Currently warehoused
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor是為半導體工業中的大體積沈積和蝕刻應用而設計的最先進的加工設備。它具有集成在緊湊系統中的大面積熱處理室,可提供更高的吞吐量和更高的成本效率。這種工業領先、集成的反應堆裝置在先進的工藝技術中提供了最高的統一性、吞吐量和產量。AMAT Centura Ultima X Reactor machine features a larg-care-ther process chamber meases 15-x-15x-2 inch.與傳統的反應堆相比,該工藝室設計用於處理大型晶片基板,允許更高的吞吐量。在嚴酷和低溫沈積及蝕刻過程中對其進行了優化。該腔室配有一個快速的樣品裝卸端口,可以使樣品快速周轉,同時將晶片保持在安全和受控的環境中。該工具還具有多種技術,包括精度為0.1°C的獨立腔室溫度控制、高速頻率切換設計和電容式壓力控制閥。此外,該工藝室可配置多達八個氣體輸入,提供了滿足各種工藝要求的靈活性。APPLICED MATERIALS Centura Ultima X Reactor的設計提供高質量的沈積和蝕刻處理,具有極好的均勻性和吞吐量。其先進的Multi-Etch技術可顯著改善沈積和蝕刻均勻性,同時減少熱預算。該處理資產非常適合要求高吞吐量生產的高級半導體工藝。它還配置了許多安全功能,如超壓、樣品旋轉和底部隔離,以幫助降低汙染風險。除了反應堆先進的性能能力外,還附帶了方便的自動化包。此軟件包包括靈活、用戶友好的直觀圖形用戶界面(GUI)和流程配方,可針對用戶的特定需求定制廣泛的診斷程序。Centura Ultima X還提供多種診斷和計量工具。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor是一種功能強大且可靠的型號,非常適合先進半導體市場的工藝需求。其緊湊的設計、先進的技術和易用性使其成為許多行業的熱門選擇。AMAT Centura Ultima X Reactor憑借其創新的熱設計、彈性性能和經濟高效的生產,是高質量工藝一致性和吞吐量的終極解決方案。
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