二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima #9078243 待售

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ID: 9078243
Chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Reactor是一種用於半導體加工的最先進的先進沈積設備。這種設備使用戶能夠加工各種薄膜材料,包括電介質、金屬和有機物。反應堆能夠提供廣泛的工藝條件,包括溫度高達1400 °C,壓力高達2 bar,流量高達5000 sccm的反應性氣體。反應堆設有高流量氣體噴射系統、多路復用氣體傳感器單元和閉環等離子體功率控制機。AMAT Centura Ultima Reactor有一個crucible型的腔室,其中央加熱的敏感器支撐著廣泛的基材尺寸。加熱敏感器設計用於在加工過程中保持均勻性,確保大晶圓區域的薄膜均勻性。帶有快速晶圓傳輸工具的Cruiser-Lift Process Loader提供了快速輕松地裝載基板和盒式磁帶到盒式磁帶,以實現快速周轉。此外,Ultima反應堆還設計了一個機械臂,用於晶圓的裝卸和薄膜形成的封裝。APPLICED MATERIALS Centura Ultima Reactor用途廣泛,能夠處理10nm至1um和2-200 nm厚的電介質層厚度。反應堆還與一系列材料兼容,包括Al、Al2O3和TiN。該設備內置資產控制和優化流程參數,簡化流程開發和可重復性。Ultima反應堆配有高分辨率視頻過程監視器,對過程步驟和結果提供完全自動化的實時現場監控。此外,Ultima反應堆還配備了包括自動關閉、自動氣體關閉系統和遠程關閉安全在內的內置安全功能。為了確保可靠的運行和高質量的結果,Ultima反應堆的設計便於維護和運行,采用模塊化設計,便於維修和其他標準工藝使用部件。Ultima Reactor還附帶了一個高級操作軟件,旨在優化用戶定義的參數。Centura Ultima Reactor給用戶留下了高性能的工藝成果和高產率。它是一個快速循環、高度精確、可靠和安全的反應堆,可以方便地為各種半導體應用生產高質量的薄膜。
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