二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima+ #9230338 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima+是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，用於薄膜沈積。該設備采用先進的中篇小說雙頻Generation4等離子體源，能夠精確控制沈積溫度，以沈積低至0.3 um厚的均勻層。反應堆還能夠處理介電半導體和導電金屬，以創建低k介電互連或金屬接觸屏障。AMAT Centura Ultima+采用了專有的雙區域感應線圈設計，為其75 MHz和13.56 MHz射頻源供電。這樣可以改善層的均勻性和吞吐量,從而提高產量和更好的產量控制。它的多瓣磁力射頻線圈提供了等離子體在整個腔室中的出色復制，以獲得更高的溫度和層均勻性，從而使材料更好地轉移到基板中。該系統采用適當的Novellus Scrub和Drytube技術來確保高質量、無缺陷的薄膜沈積。磨砂工藝使用多個低壓氮氣管的級聯陣列，在下一個工藝步驟之前從基板表面清除所有等離子體副產物和汙染物。幹管技術使工藝氣體和基板溫度保持一致，從而確保了高質量的沈積。APPLIED MATERIALS Centura Ultima+還具有集成的端站模塊,允許配方編寫、可編程計量和可調節的用戶界面選項,以實現最大程度的流程優化。其先進的材料處理單元使基板能夠在反應堆腔內不間斷地連續移動和旋轉，從而實現高通量生產。除先進的沈積技術外，Centura Ultima+反應堆還包含一臺高分辨率成像機，允許精確、易於理解的過程實時圖像。此工具還支持流程優化,為直接監控和洞察流程性能提供了強大的工具。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima+等離子體增強化學氣相沈積反應器為各種設備應用提供了生產高質量、均勻薄膜層的先進技術。其先進的沈積和材料處理技術結合了集成的用戶界面、成像和計量能力，為高通量生產優質薄膜層提供了理想的資產。