二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116535 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD （Wet Chemical Vapor Deposition）反應器是一種用途廣泛的高性能工具,專為各種濕式化學氣相沈積工藝而設計。這種腔室式設備為生產功能性和器件級薄膜提供了性能、多功能性和成本節約。廣泛應用於半導體工業中，用於原子層沈積、化學氣相沈積、化學機械拋光等應用。反應堆設計為在高達1000 °C的溫度下運行，可調壓力範圍為0.01-2.1 torr。該反應器能夠進行多室運行，以擴大過程吞吐量。該室由不銹鋼構成，結合了多個加熱器和冷卻器的系統，用於精確的溫度控制和穩定性。該單元提供了廣泛的工藝能力，如成分載荷、反應物註入以及添加劑和減法工藝。它們非常適合將多層薄膜沈積到特定厚度的基板上,如晶圓、玻璃或塑料。該室還設有一個專有的「動態壓力控制」，允許精確的壓力控制。AMAT Centura WCVD可與幹襯裏、氣泡、輸送機和基板支架等其他工藝模塊結合使用，以提高沈積效率。該機還包括一個大型液晶顯示屏，便於編程、數據存儲和過程監控。可選的「Smart Air and Gas Control」允許用戶預編程相同配方的多次運行，以確保過程結果的可重復性。此外,通過精確調整設置和成分加載,APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD提供了高重復性和過程穩定性。這反過來又允許高產量的所需薄膜，使其成為制造元件和設備的理想選擇。因此，它適用於一系列行業，包括汽車、航空航天、醫療、通信和電子。總體而言,APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一種用途廣泛、經濟實惠的沈積工具,具有廣泛的功能,適用於各種應用程序。該資產具有高精度、重復性和可擴展性,可提供可靠的性能,並為各種產品提供優質薄膜。