二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116738 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是晶圓制造過程中使用的一種化學氣相沈積（CVD）反應器。Centura是一種低壓、高溫的化學氣相沈積系統，用於在晶圓上產生二氧化矽（SiO2）表面。WCVD代表濕化學氣相沈積，因為水是在過程中使用。反應堆的腔室由不銹鋼構成，設計最多可容納12個300毫米晶圓和17個200毫米晶圓或迷你基板。該過程發生在高溫熱區，溫度高達900 °C。壓縮空氣用於提供載氣，以協助蒸氣升華和活性化學物質通過腔室運輸。在過程開始時，晶片被裝入腔內。然後，用真空泵將反應器排空，將腔室加熱。然後將水加熱成蒸氣形式，在室內與氧氣和氮氣混合。這就產生了碳氫化合物氧化劑。這些碳氫化合物氧化劑與加熱的晶片較大的表面積發生反應，導致形成均勻致密的氧化層。沈積的SiO2層具有很高的保形性，可以容納平坦結構和階梯式結構。這樣可以實現更好的表面積接觸,從而實現更好的階躍覆蓋和高產率。沈積層的厚度由反應物的流量和壓力精確控制。最後，一旦過程完成，晶片就從腔室中卸下。AMAT Centura WCVD是一種可靠、精確的CVD反應器，廣泛應用於介電過程、氮化物膜、金屬膜、屏障膜以及在柵極接觸處等過程。它是晶片制造和工藝技術中至關重要的設備，能夠快速、安全地提供均勻、致密的SiO2層。