二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116739 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD（化學氣相沈積）反應器是一種通用的半導體器件制造工具,可實現高級3D功能。用於沈積多種薄膜材料，包括多晶矽、Si3N4、SiO2等摻雜和非摻雜電介質。該工具通過使用載氣將兩種或兩種以上原料的氣體混合物送入腔室，然後將其加熱到預定溫度和壓力，從而產生化學反應。該反應產生反應產物，然後沈積在一層薄薄的底物上，如矽片。AMAT Centura WCVD反應堆配備了多種不同的技術和配置，讓用戶能夠根據自己所期望的要求調整工藝。這包括可調反應物濃度、可調基板溫度、可調加熱器功率、可調壓力、可調停留時間、可調腔室幾何形狀。這些特性可以精確控制反應物，確保沈積性能一致和可重復。此外，APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD反應器配有一個全面的溫度控制和診斷包，其中包括對基板和沈積室的溫度監測。這進一步幫助操作員提供有關工具及其工藝條件的實時反饋。APPLIED MATERIALS Centura WCVD反應器采用的化學氣相沈積技術具有很高的可靠性和可重復性。它能夠產生極為均勻和光滑的表面，非常適合銅互連、通矽通氣、MEMS/NEMS、射頻和模擬IC、光學器件和MEMS/3D晶體管等先進應用。此外，Centura WCVD反應堆提供高熱效率和低氣體使用量，使其既經濟高效又環保。總體而言，CENTURA WCVD反應堆提供先進可靠的化學氣相沈積溶液。它能夠產生極均勻和低缺陷的表面，非常適合制造先進的半導體器件。該工具的可調配置選項、全面的溫度控制和診斷包以及高熱效率使操作員能夠生產出經濟高效、可重復、可靠的產品。