二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116740 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一種反應堆設備，設計用於將絕緣材料薄膜沈積在晶圓上。它采用低壓化學氣相沈積（LPCVD）工藝沈積氮化矽、二氧化矽和磷矽酸鹽玻璃（PSG）的薄膜。該系統還能生產多晶矽膜，可用於柵極和互連沈積，以及各層摻雜。AMAT Centura WCVD由兩個主要組件組成：工藝室和控制器。該工藝室由一個不銹鋼真空室和一個8英寸晶圓裝卸座組成。真空室的內表面有靜電屏蔽襯裏，為晶片提供額外的電荷粒子保護。室內有幾種工藝氣體，一個輝光放電源，一個感光器和一個高溫過濾器。磁感器在沈積過程中將晶片固定在適當的位置,並可以加熱到最高溫度1100 °C。輝光放電源用於分解前體氣體。控制器是用戶與進程室之間的接口。它與加工室相連，用於操作單元。它允許用戶設置各種工藝參數，如氣體流速、晶圓溫度、等離子體密度等。控制器還提供腔室壓力、氣體流量、溫度等工藝數據的讀數。APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD機器設計為以手動或半自動模式運行。在手動模式下,用戶可以完全控制沈積過程。這種模式使沈積參數的調整具有最大的靈活性。在半自動模式下，工具會根據預編程的配方自動調整其參數。這種模式需要較少的用戶監督，並允許更統一的沈積膜。CENTURA WCVD資產是絕緣膜低壓化學氣相沈積的高效可靠平臺。它能夠生產高質量和均勻性的薄膜，同時在工藝參數和操作模式上提供多功能性。這使得它成為各種應用的理想選擇，從MEMS到太陽能電池和半導體。