二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116741 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD （CVD）沈積反應堆徹底改變了半導體工業。這種反應器是為金屬和介電材料沈積在基板上而設計的，在各種各樣的過程中。這是通過產生高溫反應環境，將高質量的薄膜和化合物沈積到表面上來完成的。利用AMAT Centura WCVD反應器的主要優點是能夠提高沈積速率，提高薄膜的溫度均勻性和一致性，減少顆粒汙染。APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD配備了四盞高頻石英鹵素燈，在保持溫度分布均勻、交叉汙染最小、顆粒排放低的同時，達到最佳沈積速率。它還具有高流量預混合氣噴射器，以提高沈積速率的均勻性。這種氣體輸送方法更可靠，防止樣品上產生熱點。此外，該系統還包括一個用於穩定基板溫度分布、減少熱過載和提高工藝結果準確性的熱穩定室。AMAT/應用材料CENTURA WCVD反應器在VLSI電路和光學材料的制造上效率很高。它能夠使復雜合金的薄膜生長，以及聚合物和低介電常數塗層的沈積。此外，Centura WCVD反應堆可用於CVD封裝、屏障層、光阻沈積和介電層沈積。AMAT CENTURA WCVD反應堆是單晶矽晶片、介電層、聚酰亞胺、石英等先進材料的理想選擇。它具有高達1400 °C的高溫操作，用於以納米級的順序沈積超薄層。該反應堆旨在提供最大限度的過程均勻性控制。它還具有廣泛的溫度和停留時間，具有極好的重復性和重復性。應用材料Centura WCVD反應堆將為高端微電子技術的所有工藝應用提供最高的質量和生產力。其提高沈積速率和溫度均勻性的能力，同時最大限度地減少了顆粒汙染，使其成為半導體工業的理想選擇。