二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116743 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD反應堆是一種用於半導體制造過程的最先進的化學氣相沈積（CVD）設備。這種先進的CVD系統旨在以比傳統CVD系統更高的沈積速率提供更高產量的外延膜。AMAT Centura WCVD反應堆具有多種組分，可以在外延和擴散應用中帶來優異的效果。首先，應用材料CENTURA WCVD反應器具有吸熱或加熱氣源分布單元。該機器利用專有技術向刀具的ID和OD圓柱體提供均勻且可重復的氣體分布。氣體分配資產也為反應堆室提供了精確的均勻性，給出了可重復的結果。此外，AMAT CENTURA WCVD反應堆設有高效加熱傳遞室（HTC）。該腔室提供有效的熱控制，並確保將工藝氣體均勻註入基片上。HTC還可以減少輻射熱能造成的損壞,並在配方步驟之間循環時實現更快的熱恢復。此外，CENTURA WCVD反應堆采用了創新的可編程淋浴噴射模型。這種設備能夠以可配置的淋浴模式生產工藝氣體，從而對沈積過程提供更大的靈活性和控制。另外，可以使用多個單獨的噴嘴環來精確控制擴散時間和產生的腔室環境。為了補充淋浴噴射系統，Centura WCVD安裝了石英通道電子回旋共振（ECR）源。該單元提供高功率等離子體，用於等離子體增強率，低殘余氣體和更好的控制膜參數。它還提供了無與倫比的獨立控制生長參數如溫度和氣體化學的能力。最後,應用材料Centura WCVD反應器具有光子固化模塊.該模塊的設計目的是通過表面晶片在沈積後的紫外線曝光來進一步提高器件性能。這樣可以確保晶片更大的均勻性和更好的適應性,以便進一步加工。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD反應堆是生產高質量外延和擴散薄膜的強大而通用的工具。它的高級功能和組件為用戶提供了更大的控制、一致性和可重復性,以滿足他們的處理需求。