二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9169932 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD （Wet Chemical Vapor Deposition）反應器是一種專門的生產級工具，用於各種先進的材料生長應用。AMAT Centura WCVD反應堆設備能夠以高吞吐量實現多種優質薄膜。該系統結合了濕式化學反應物源、熱壁管爐、冷卻反應室、高效傳熱單元和高精度溫度反饋控制。濕式化學反應物源是為精確穩定的化學氣相沈積而設計的。反應物氣體，要麼是鹵化物，要麼是元素，通過內部氣體進料機輸送，然後通過氣泡產生受控範圍的成核密度。氣泡器有一個可更換的惰性加熱器，它允許將氣泡器的溫度設置在所需的範圍內，從而導致反應物氣體的精確控制流動。應用材料CENTURA WCVD中使用的熱壁爐提供了高效可靠的熱輸入。它使用了一個強銨（Mo）的坩堝來提供均勻的熱分布，以及一個高發射率的Mo隔熱板來保護反應室不受散熱的影響。這些部件共同確保整個爐子保持所需的溫度水平。冷卻反應室通過提供穩定和隔熱的環境，有助於控制膜沈積溫度。它采用高級包層金屬板制成，具有良好的隔熱性能和無漏氣密真空密封。此外，它還配備了高效的蒸氣去除端口，有助於清除多余的反應物氣體並降低沈積溫度。Centura WCVD傳熱工具是為快速高效的薄膜沈積而設計的。它使用連續熱壁加熱元件來實現最大的傳熱電位，並使用堅固的熱電冷卻器來消除靜態熱負荷。其雙區域控制確保整個資產的溫度分布均勻,有助於創建一致的薄膜質量,並消除過量熱循環的需要。最後,AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD具有高精度的溫度反饋控制模型.這種先進的控制設備可以實時控制薄膜沈積，優化工藝參數，確保高膜質量。結合其高效的傳熱系統，應用材料Centura WCVD提供了卓越的薄膜沈積效率。