二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9200055 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，用於在多種底物上生長材料薄膜。反應堆采用矩形設計，有一個由石英包層和一系列用於反應物氣體的進氣/排氣噴嘴組成的有限深度室。在腔室中，使用電感應熱源來影響表面敏感反應。WCVD工藝由多個同時氣相反應組成，基板保持在高壓和高溫。底物暴露於含有薄膜生長所需材料的反應物氣體中。這些反應物在室內分解形成沈積物。晶圓溫度由石英晶體微平衡測量，可從室溫調節至最高1000 °C。WCVD工藝適合於許多半導體材料如矽、的、矽化合物。也用於金屬、合金和氧化膜如氮化鈦、碳化硼、氮化矽、矽化鈦。該工藝還用於沈積有機和陶瓷層如聚氟乙烯（PVDF）。AMAT Centura WCVD工藝的精確度和精確度是非常精確的，因為該工藝的精確度很高。薄膜的均勻性和可重復性非常好，薄膜可控在+/-0.1 nm以內。對於金屬和氧化物薄膜的沈積，該工藝的溫度穩定性非常重要，WCVD系統在+/-0.1°C的範圍內提供了良好的熱控制。應用材料CENTURA WCVD工藝是當今最先進的CVD技術之一。與其它CVD方法相比,它提供了更好的過程控制和可重復性。其多功能設計使各種薄膜的沈積具有極好的均勻性和控制性。具有精確的厚度控制和均勻性的薄膜生產能力.這使得WCVD工藝成為各種薄膜應用的理想選擇。