二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9358216 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於大面積半導體晶片的先進生產。反應堆使用氫氣、矽烷或甲烷等氣體組合，在矽基板頂部合成薄膜層。這些層，通常是二氧化矽或氮化矽，可以用於現代集成電路所需的許多層。該設備采用開放式框架設計，具有獨特的氣體輸送和預調理系統，可進行高溫處理和高速運行。這種特性使得層的沈積具有更大的均勻性，這對於創建現代集成電路所需的復雜電路布局至關重要。該單元還包括一個中心溫度控制模塊，既控制工藝室的溫度，也控制進入的氣體混合物。AMAT Centura WCVD反應堆還具有多項安全特性。例如，反應堆是用高溫保護來建造的，以確保安全的加工溫度得以維持。反應堆還配備了真空泵機器，並有一個超壓保護工具，防止反應堆在壓力過高的情況下運行。該資產可用於為各種應用處理各種材料。多孔、致密、透明的薄膜都可以用Centura反應堆合成。這些薄膜可用於矽器件的光伏電池、催化劑、層間絕緣等應用。該模型還可用於合成化學品和其他物質的塗層，減少對昂貴的底物處理的需要。應用材料CENTURA WCVD反應堆是一種高效可靠的技術，設計用於生產各種半導體器件。該設備具有高溫性能和對沈積參數的嚴格控制，是電子元件生產的絕佳選擇。