二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #9315574 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxZ反應堆是一種高效、高性能的等離子體蝕刻設備，專為半導體行業的關鍵應用而設計。反應堆能夠同時處理n型和p型晶片，使設備產量和吞吐量達到最高水平。AMAT Centura WxZ是一種雙區反應堆，集成了經典和先進的等離子體蝕刻技術，以精確控制各種蝕刻蝕刻劑的精確時間和劑量。該系統配有一個封閉的射頻室，允許精確控制等離子體環境，並確保晶片暴露在均勻一致的蝕刻條件下。APPLIED MATERIALS Centura WxZ還具有可變氣體註入單元，允許精確控制蝕刻氣體流量。這允許精確控制蝕刻速率、選擇性和離子能量，以及優化蝕刻過程的均勻性和可重復性。該機器可配置為使用各種氣體，包括Ar、CF4、HCl、O2和SF6，以確保最佳工藝性能。Centura WxZ還具有先進的真空工具,可最大程度地減少汙染並提高蝕刻室的可重復性。真空資產旨在最大限度地減少顆粒汙染，最大限度地降低晶圓損壞的風險。該模型還采用了一種新型的靜電卡盤設計，保證了晶片的牢固而均勻的夾緊，從而能夠精確控制蝕刻均勻性和屈服。最後,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura WxZ包括多種增強的自動化和過程控制功能,為等離子體蝕刻工藝的最新優化提供了一個全面的平臺。該平臺包括用戶友好的圖形用戶界面、實時流程監控和診斷功能，以及預定義蝕刻流程的綜合庫。總體而言，AMAT Centura WxZ是一種用途廣泛、效率高的等離子體蝕刻反應器，能夠為半導體工業中的關鍵蝕刻工藝產生優異的效果。通過結合經典和先進的等離子體蝕刻技術，該設備能夠實現相同的蝕刻特性，確保最高水平的設備產量和吞吐量。APPLIED MATERIALS CENTURA WxZ具有一整套自動化和過程控制功能,是尋求卓越蝕刻效果者的理想選擇。