二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #116340 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種為光掩模制造而設計的蝕刻/蝕刻幹蝕刻反應器。它旨在提供高蝕刻速率、窄溝槽和金屬線形、良好的輪廓控制以及高吞吐量能力。該系統采用了先進的晶圓處理、基板預清洗、蝕刻和後清洗方法。晶片首先安裝在盒式磁帶帶上，然後將其插入加工室。該室配有氣體和溫度控制，以提供最佳工藝條件。一旦閥門關閉並啟動該過程，就會施加功率並產生等離子體蝕刻。在蝕刻過程中，使用蝕刻頭來控制溝槽或金屬線的寬度和形狀。用於制作半導體器件光掩模和層圖樣的等離子體蝕刻工藝使用氣體-混合物、壓力和功率從晶圓中提升圖樣。第一步是在蝕刻處理前預先清洗晶片表面。預清洗可能包括去除先前工藝中的殘留物，去除表面顆粒，調整表面粗糙度。AMAT CENTURA使用開環主動流控制（FLOC）進行精確的蝕刻速率控制,以減少過度蝕刻,並保持精確的目標尺寸。該系統還支持高吞吐量、精確的金屬線形狀和尺寸控制，以及高蝕刻率。實時監控和控制工藝參數，提供精確的工藝性能。結果是均勻的蝕刻結果、直線和改進的輪廓控制。蝕刻後清洗過程（包括不同的化學浴和洗滌步驟）可以去除蝕刻過程中發生的任何殘留物和劃痕。後處理步驟允許零件通過定性測試,並為下一個處理步驟做好準備。綜上所述，APPLIED MATERIALS CENTURA是一種先進的蝕刻/蝕刻幹蝕刻反應器，設計用於制造半導體器件的光掩模和層。它提供精確的蝕刻速率控制、高吞吐量能力以及精確的形狀和尺寸控制，以提高產量和工藝效率。系統的預清潔、蝕刻和後清潔步驟確保均勻的蝕刻結果和改進的輪廓控制。