二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293598413 待售
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已售出
ID: 293598413
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Oxide etcher, 12"
Process: Dry ETC
CIM: SECS / GEM
KAWASAKI Handler
Factory interface: (3) FOUPs
Operating system: Windows XP
Spare parts:
Qty / Part number / Description
(2) / 0190-00958 / Bearing for MF-Robot tube
(4) / 0010-17405 / Wrist assembly
(4) / 0190-13249 / Bearing for elbow
(4) / 0190-13250 / Bearing for elbow
(1) / 0010-17447 / Wallow controller
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler是一種最先進的CVD/PECVD反應堆設備,設計用於薄膜沈積在多種基板上。這套先進的系統配備了兩個腔室,每個腔室都配有一條單一的工藝氣體管線和一對位置耦合的敏感劑/電極組件,允許工藝靈活性和優越的薄膜均勻性。AMAT Centura Enabler利用先進技術提供卓越的一致性、可重復性和精確度。該單元具有可容納最多兩個基板的雙區域加工室。過程壓力從大氣控制到760 torrs不等。該機還具有一系列高效的加工氣體,包括Ar、O2、N2、H2、CH4等。此已完成的工具旨在最大程度地提高工藝效率,最大程度地減少熱損失,並提供更多的生產正常運行時間。為此,它配備了高功率高溫計資產、閉環溫度控制器以及用於精確熱分割的增強型氣體動態分配系統。此外,該模型還預配備有ATC-on-the-Fly (ATCOTF)技術,可在不犧牲吞吐量的情況下提供最佳動態過程控制。在工藝動力學方面,APPLIED MATERIALS Centura Enabler利用了一種增強型(HTE)高溫電子束反應室,能夠在1300°C下運行。其優越的表面加熱和均勻性通過其兩個磁化器和兩個電極的諧振而得到進一步改善。該設備還具有先進的活性氣體管理(AGM)接口,可用於兩個室內的先進氣體輸送和利用。此外,Centura Enabler還在整個薄膜沈積過程中保持出色的溫度控制。可以通過為系統配備掃描電子顯微鏡(SEM)來結合後工藝計量。綜上所述,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura Enabler提供了許多高級功能和功能,可用於沈積具有非凡均勻性和可重復性的薄膜。此CVD/PECVD單元非常適合需要高精度和過程控制的應用。
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