二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293628309 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種沈積工具，設計用於大面積基板上外延膜的生長。該室的設計使得離子可以從各個方向植入薄膜中，確保薄膜沈積的均勻性。這種類型的沈積被稱為Epitaxy，通常用於在半導體器件中創建超薄和多層結構。AMAT CENTURA反應器可在真空或壓力下運行，並針對薄膜沈積過程中的均勻熱循環進行優化。它配有一個獨特的「多離子源」，能夠將不同的薄膜共沈積到基質上。此多離子源利用專門為每個應用程序設計的專有配方。APPLIED MATERIALS CENTURA具有高溫、低壓的環境,可在類似清潔室的環境中運行。其低粘度、高壓、惰性的大氣層使得熱穩定材料的沈積具有非凡的均勻性。惰性環境確保在薄膜沈積過程中不會引入汙染物，從而產生沒有任何顆粒狀偽影的清脆可靠特征。超高真空（Ultra-High Vacuum，UHV）是CENTURA反應堆的重要組成部分。UHV允許腔室在非常低的壓力下工作，允許多層膜的共沈積，並改善在基板上生長的膜的均勻性。此外,特高壓還可確保超清潔的增長環境,保護正在構建的設備的完整性。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA由一個現代電源供電,該電源旨在為增強的過程提供極低的溫度。電源提供了高度的溫度精度,確保了整個基板平面上設計精密的特性和出色的均勻性。AMAT CENTURA可以配置額外的硬件,例如用於晶圓交換周期的負載鎖定（LLS）。Load-Lock系統可在沈積室和Load-lock室之間進行快速晶圓交換循環。該系統大大降低了被加工晶片被汙染和氧化的機會，有助於提高結果的可重復性。最新版本的APPLIED MATERIALS CENTURA是為滿足各種客戶需求而量身定制的。新發布的「Intuitive CENTURA Instrumentation」旨在減少學習曲線，幫助用戶快速起床。此外，它還具有一個「智能控制器」，用於自動控制沈積參數，可以設置這些參數以優化性能。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA系統是一種功能強大的沈積工具,用於制造功能性高性能半導體器件。它利用精確的沈積系統、惰性環境和精確的溫度控制來實現均勻性和可重復性。隨著它的不斷發展，它肯定仍然是現代半導體工業的重要工具。