二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9047762 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種高度可靠、經濟高效的反應性加工工具,是一種大大改進的設備,可用於高容量沈積和保護性氧化物蝕刻速率。該系統利用先進的PECVD技術，為多種半導體材料提供高工程凈空和經濟高效的高產加工。AMAT CENTURA單元適合制造BiCMOS晶片，同時進行沈積和蝕刻，允許制造對生產小型、致密和復雜半導體元件至關重要的超薄、高密度介電膜。此外,它的高沈積速率、大面積均勻性優越、工藝經濟、過程實時監控,使其成為大規模生產適用於超大規模設備的復雜模式的理想機器。APPLICED MATERIALS CENTURA工具的獨特優勢包括其獲得專利的Advanced Plasma Engineering （APE）技術，由於對等離子體化學的更好控制，導致了高質量和均勻的等離子體、更快的沈積速率和表面質量改進。其鄰近效應補償技術通過控制偏差來優化沈積速率和減少誤差，從而提高了步進覆蓋率。堅固的腔室和創新的側壁冷卻管理技術確保沈積在較大晶圓尺寸上的均勻性。CENTURA資產能夠同時處理兩個直徑6英寸的晶片，從而實現成本效益高、體積大的沈積和保護氧化物蝕刻速率。Titan CVD工具是專門為高級陣列而設計的,在晶圓上的任何位置都能提供卓越的一致性和卓越的均勻性。它同時支持氧化物和氮化物CVD工藝，可以處理各種先進的介電和金屬膜。AMAT/APPLICED MATERIALS CENTURA模型由新穎的AMAT軟件提供動力，它提供了高度準確和直觀的過程控制和監控，以防止逃逸缺陷和減少屈服損失。AMAT CENTURA設備已廣泛用於超大規模設備和集成電路的制造，非常適合先進的CMOS應用。這歸功於它能夠有效地蝕刻和沈積適用於超大規模設備的精確而均勻的薄膜。而且，該系統的升高壓力和高壓低溫（HPLT）工藝使其成為幹蝕刻的最佳平臺，創造出表面缺陷低的超光滑表面。總之，APPLIED MATERIALS CENTURA是一個最先進的設備，為高體積沈積和保護氧化物蝕刻率提供了卓越的工藝控制和高產效果。其先進的等離子體工程（APE）技術和鄰近效應補償技術提供了更好的階躍覆蓋、均勻性和可控性、改進的介電和金屬膜沈積以及低表面缺陷。這些功能使其非常適合制造高級CMOS應用程序。