二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9098405 待售

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ID: 9098405
HDP CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反應器是一種化學氣相沈積(CVD)設備,用於將薄膜沈積在半導體工業的晶圓等基板上。該系統能夠在廣泛的材料中具有較高的沈積速率和均勻性,包括矽、砷、氮化鈦以及其他各種金屬和氧化物。AMAT CENTURA反應堆的設計目的是通過消除溫度控制均勻的「熱點」,提供精確的氣壓控制,並采用低質量的緊密工藝室設計,以更快的熱化,從而最大限度地減少熱損傷和顆粒。該裝置由紅外燈或電加熱「鉸鏈」元件控制溫度,並具有火磁場,以集中和增強過程均勻性。應用材料CENTURA反應器是用高純度的侵蝕性和化學惰性,以及不銹鋼襯裏為更好的工藝自動化建造的。該機還采用低顆粒設計,有助於最大限度地降低汙染風險,以及包括TEOS洗滌器和催化轉化器的排氣工具。CENTURA反應堆可編程為單源和雙源過程運行,使其適合各種生長速率,包括淺溝隔離、雙大馬士革、化學機械平面化(CMP)和殺鹽工藝。它提供了對壓力、溫度、過程時間和分子束技術的精確控制,產生了極好的均勻性、密度和線性(斜坡上升和斜坡下降)。除了AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA提供的高性能外,該資產還易於使用。界面允許用戶精確控制過程的各個方面,從配方和調度到功率和氣體控制,在沈積過程中提供對基板層厚度的精確預測。該型號還具有可擴展性和可升級性,使用戶可以根據不斷變化的需求輕松調整設備。總體而言,AMAT CENTURA因其獨特的設計、卓越的性能和靈活性而成為領先的CVD系統。即使在高沈積速率和高精度的情況下,也能以最小的熱損傷產生高質量的結果。由於這些原因,該單元被廣泛用於半導體行業的工藝開發、生產和鑒定(QA/QC)測試。
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