二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9101735 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種高性能、多用途的反應器，設計用於研究和生產先進的半導體薄膜和集成電路。該反應堆由專門從事自動化加工設備和系統的公司AMAT制造。AMAT CENTURA是一種具有四個低壓無功氣源、高功率微波能量和專有原位測量系統的單晶圓、高密度等離子體處理設備。為了改進工藝集成和晶圓測量,APPLIED MATERIALS CENTURA采用了兩個不同的工藝模塊,可根據需要輕松更改。第一個模塊是低壓化學氣相沈積單元（LP-CVD）。該模塊包含一個感應耦合等離子體源，是合成薄膜和用反應性氣體對薄膜進行表面改性的理想選擇。第二個模塊是等離子體增強化學氣相沈積機（PECVD）。該模塊用於沈積氧化矽、氮化矽、摻雜的氧化矽等薄膜。CENTURA具有低成本基板傳輸工具,可減少與晶圓加工相關的昂貴人工。它還包括專有的現場計量設備和環境溫度過程監測，提供準確和可靠的測量，可以調整以取得最佳的過程結果。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA還包括一個專利的低阻力廢水過濾器，防止危險顆粒進入大氣。AMAT CENTURA能夠生產具有廣泛性能的薄膜，如優異的電性能、優異的熱性能、優越的表面形態和較低的重結晶溫度。應用材料CENTURA利用高功率微波、感應耦合等離子體源和多個反應性氣源相結合，沈積具有較高階梯覆蓋率的薄膜和較薄的薄膜，以提高吞吐量。其多種氣源允許電阻率降低、表面張力低的薄膜沈積。簡而言之，CENTURA是為研究和生產先進半導體薄膜和集成電路而設計的最先進的資產。其特點包括四種低壓氣源、大功率微波能量、專利原位測量、低成本基板轉移模型。能夠生產出電性能優良、熱性能優良、表面形態優越、重結晶溫度低的薄膜。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA還包括一個專利的低阻力過濾器，防止危險粒子進入大氣。