二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9122659 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是用於制造半導體基板或晶片的真空沈積設備。它為化學氣相沈積（CVD）、物理氣相沈積（PVD）和原子層沈積（ALD）等多種工藝應用提供了理想的環境。該系統由多個組件組成，其中包括真空加工室（主要加工室）、Showerhead沈積源、升華源和Cryo-Thin源。真空處理室的真空額定值為10-8 Torr，是發生薄膜沈積的主要工藝室。它通常封裝在陶瓷材料中，這種材料提供了額外的穩定性，並包括一個原位清除口，以排出任何不需要的顆粒。它還包括加熱元件、溫度控制器和用於溫度控制的低溫氮毯子。真空處理室具有可調的高度、寬度和深度，以便進行定制的薄膜沈積。Showerhead沈積源是放置在真空處理室的沈積源，用於均勻薄膜的沈積。它由許多可單獨調節的噴嘴噴嘴組成，這些噴嘴噴嘴可以精確設置，以提供所需厚度的均勻薄膜。升華源位於真空處理室和淋浴頭沈積源之間，用於金屬膜的沈積。該源利用加熱的源板使金屬汽化，然後以薄膜的形式冷凝在基板上。Cryo-Thin Source是一種沈積源，用於金屬膜在基板上的均勻沈積。它位於升華源和淋浴頭沈積源之間，通常以液氮供應。它由一個低溫噴嘴和一個加熱噴泉板組成，用來降低金屬原子的溫度，導致它們均勻沈積在基板上。AMAT CENTURA是一種多功能真空沈積裝置，可用於生產各種具有完美膜粘附和厚度均勻的高性能半導體基板。它是一種可靠、經濟高效的機器，可用於實現各種應用的優秀薄膜沈積。