二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9160522 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反應器是一種高性能、半自動的PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）設備，旨在以高速率提供成本效益的無機等離子體沈積。該工藝室包含四個在13.56MHz運行的射頻源，用於在工藝室中點燃和維持微波等離子體。等離子體源能夠處理低至中等壓力（<10-3 torr），功率高達8 kW。利用這一通用系統，工藝工程師能夠沈積氧化物、氮化物和碳化物薄膜，用於制造和研究先進的微電子器件。通過裝入單晶片負載鎖，腔室快速沖洗，消除了用戶幹預，減少了加工腔室受到汙染的可能性，從而降低了擁有和操作成本。利用帶波紋管密封件的減振裝置，設計了一個密封室，以捕獲末端真空，降低擁有成本。此外，薄膜沈積工藝使用氣體輸送歧管，可配置用於反應性和非反應性氣體。在腔室內部，使用細角度淋浴臺工具均勻地分布工藝氣體，預定義的淋浴臺圖樣確保氣體均勻分布，從而在所有晶片上實現更好的工藝均勻性。AMAT CENTURA反應堆還包括一個用戶友好的圖形用戶界面軟件。此軟件允許通過統一菜單檢查、配置和監視過程參數,從而簡化薄膜沈積過程的界面、操作和文檔記錄。本機主要用於半導體器件結構的制造，其薄膜沈積速率高，器件性能好，P和E質量高，零件成本低。應用材料CENTURA反應器符合FAB20、SEMI-S2標準的要求,並提供清潔、安全、高效的薄膜沈積工藝。