二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9170824 待售

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ID: 9170824
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
WCVD System, 8" WxZ Optima (4) Chambers 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種先進的等離子體蝕刻反應器,用於半導體領域的工業和研究應用。該反應堆是傳統蝕刻和沈積工藝的一種高度通用的低成本替代品。它能夠處理各種材料,並具有緊湊的設計,便於集成到工藝生產線上。AMAT CENTURA配備了先進的過程控制,提供可靠、可重復的處理結果。蝕刻反應堆的堆芯部件包括真空室、射頻電源、氣體分配設備和加熱器壓板。真空室由不銹鋼構成,並配有高達10-7 Torr的可變壓力能力。射頻電源可提供高達250瓦的功率,能夠在脈沖模式和晶體控制操作下運行。氣體分配系統可容納多達10條氣體管線和兩條凈化管線,並能同時進行平行和連續的氣體流動。加熱器板由黃銅陽極和銅加熱器組成,可以在蝕刻和沈積過程中進行精確的溫度控制。APPLICED MATERIALS CENTURA蝕刻反應器最流行的用途包括Poly-Si模塊蝕刻、SiN蝕刻、氮化物蝕刻、選擇性Si蝕刻和氧化物/氮化物沈積。它能夠處理範圍廣泛的材料,包括矽、砷化氙(GaAs)、鋁、矽化物、摻硼矽、材料,以及多種金屬和塑料。CENTURA能夠在-20°C至+250°C的溫度下進行蝕刻過程,從而可以容納一系列不同的蝕刻和沈積過程。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA蝕刻反應器還提供多種選擇,包括觸摸屏監視器、集成微波/射頻控制單元和視覺機。這可以對蝕刻工藝進行精確控制,並提供了以極高的精度監控和控制工藝參數的能力。此外,真空互鎖工具可以與反應堆集成,以保證安全和一致的結果。總體而言,AMAT CENTURA蝕刻反應堆是一種極具成本效益、維護效率低、用途廣泛的資產。其緊湊的設計和先進的工藝控制使得它成為半導體工業應用中蝕刻和沈積工藝的絕佳選擇。它靈活的溫度控制、可靠的結果以及廣泛的材料兼容性使其成為許多工藝的理想解決方案。APPLIED MATERIALS CENTURA提供了一種簡單有效的方法,可以高效、精確地執行各種蝕刻和沈積操作。
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