二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9189948 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS CENTURA是AMAT開發的一種高性能反應堆，主要用於半導體工業的深紫外線和蝕刻工藝等光刻工藝。AMAT CENTURA平臺基於多腔室、多區域配置,旨在最大限度地提高生產效率和效率。設有高溫石英蝕刻、高壓真空沈積、高頻等離子體沈積系統。與單室系統相比,APPLIED MATERIALS CENTURA設備的多室設計可以提供更好的工藝性能。這是由於改進的溫度、壓力和均勻性測量，可以與多室設計。多腔室設計還提供了更高的氣體吞吐量，允許更高的吞吐量速率，同時也提高了工藝的均勻性。CENTURA系統最多可管理四個獨立的進程室。這樣就可以提高吞吐量和使用單獨的腔室同時運行不同進程的能力。每個腔室都為不同的工藝參數，如溫度、壓力和沈積速率配備了一個獨立的控制器。它專為溫度精度而設計,能夠準確控制蝕刻和沈積步驟。該裝置還具有真空沈積技術，如等離子體增強化學氣相沈積和原子層沈積，從而能夠產生更復雜的結構。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA還具有高頻等離子體沈積，以減少循環時間和提高均勻性。高頻等離子體對硼具有更大的耐受性，可用於減少循環時間以及使高k電介質沈積容易得多。該機還包括氣體箱、主動排氣、壓電傳感器等安全機構，對各種工藝參數進行監控。這樣可以確保工具的使用安全,並且過程符合盡可能高的安全標準。該資產還設計用於最大限度地減少汙染和最大化效率，用戶界面使得各種參數易於監控和調整。總而言之，AMAT CENTURA是一個強大而高效的反應堆模型，具有多個腔室和區域，可提高生產率和效率，同時可改進溫度、壓力和均勻性測量。APPLIED MATERIALS CENTURA平臺可以管理四個獨立的腔室，並配有真空沈積、高頻等離子體沈積和安全機制，以確保用戶的安全和生產零件的質量。因此，它是任何高精度光刻工藝的理想工具。