二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9231993 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9231993
晶圓大小: 8"
PVD System, 8"
(3) Chambers
Load lock: Narrow body
HP Robot
Position A: STD AL
Position B: G12
Position C: PC II
Position F: Orienter degass
Chamber A:
Options:
Application: AL
Chamber body: Standard
Wafer heater: Standard
Cryo gate valve: 2PGV
Source assembly: 12.9"
Source adapter: 12.9"
Magnet type: Dura source
Magnet part number: 0010-20328
Chamber B:
Options:
Application
Chamber body: Wide
Wafer heater: A101
Cryo gate valve: 2PGV
Source assembly: G12
Source adapter: G12
Magnet type: G12
Magnet part number: 0010-20768
Shutter assy included
Chamber C:
Options:
Application: PC II
Chamber body: PC II
LEYBOLD 361c Turbo pump
LEYBOLD 360 Pump controller
RF Match: 0010-20524
Generator rack options: Selected option
Position A RF generator: AE MDX-20K
Position B RF generator: AE MDX-L6K
Position C RF generator: RF Generators (CPS1001, LF-10).
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種高度先進、精密且自動化的設備，能夠處理先進的半導體晶圓。它是專門為處理直徑300毫米（mm）的晶圓而建造的生產級反應堆。該系統配備了既高效又經濟的全自動運輸、艙室和裝載口。AMAT CENTURA單元有三個主腔室部件。前室包括一個裝載口，後室配有高能等離子體源和一個機器人臂，用於在室中放置和收集晶片。第三室，即加工室，旨在快速準確地處理每個晶片。這個腔室有高能電子源和氣源的組合。整個腔室一級的處理周期在工藝腔內進行。該機還有一個大型和可配置的顆粒狀氣體輸送工具。該資產向工藝室供應反應性氣體，用於生產和控制反應副產物和雜質。可配置性允許用戶從多個設定點中進行選擇以獲得所需的晶圓結果。該型號配備了自我診斷和光學質量控制（QC）模塊，以保證質量生產。該設備還具有TEM（<100 nm）成像系統和實時電子顯微鏡裝置，放大幅度可達3000倍。除了主室，該機還包括幾個輔助系統。這些系統用於管理反應性氣體的流動和控制諸如壓力、溫度和濕度等工具參數。該資產還配備了兩臺獨立的冷卻器，一臺射頻發電機和真空泵。該模型配備了高速數據采集設備，用於自動化數據收集和分析。APPLIED MATERIALS CENTURA系統具有廣泛的應用,包括後端線處理和間隔器缺陷檢測。該單元還提供了許多高級工藝控制選項，如原位、快速熱處理和自邊界蝕刻。機器的靈活性允許用戶設計和定制他們的生產過程和設置，以達到最佳性能和質量。通過優化設定點和參數，該工具可以滿足各種生產需求和應用，從低批量生產到大批量生產。
還沒有評論