二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9251311 待售
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已售出
ID: 9251311
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
PVD System, 8"
Load lock:
Body type: Narrow
Indexer: Automated
Buffer chamber:
HEWLETT-PACKARD Robot
Metal blade
Chamber A: GAMMA II TiN (ESC)
Chamber B: GAMMA II TiN (ESC)
Chamber C: PC-II
Chamber D: Cool down
Chamber F: Oreintor degas
Generator rack 1
0190-76118 Remote AC rack
No generator rack 2
No NESLAB
Missing parts:
NESLAB0190-76118 Chiller
Cool chamber upper
0190-01893 PVD DC Power supply 3 kV
(2) Heater drivers
SBC BD
(2) Ion gauge BD
FDD
DI/O BD
AI/O BD
Robot indexer cable
(2) CRT
(2) ESC Chuck assy Ch#A, B
(2) Heater lift motors
(2) Matchers
(2) 3620-01389 Compressors
Signal cable
0150-20678 Remote rack to Ch#A pump RJ13 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to Ch#B pump RJ14 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to Buffer pump RJ11 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to LL pump RJ12 - 50 ft
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種高水平的化學和物理氣相沈積（CVD/PVD）反應器，是許多半導體制造設施的支柱。AMAT CENTURA能夠對各種基材尺寸進行高速、高精度的薄膜沈積工藝。該設備配備了先進的自動化控制技術，能夠精確的蝕刻和沈積控制，以及低溫、高均勻性的薄膜沈積。反應堆的設計還采用了集成的直接耦合泵和堅固的熱控制技術，以獲得最佳性能。APPLIED MATERIALS CENTURA設計用於基於矽的半導體制造工藝。它主要用於生產薄膜晶體管（TFT）和集成電路（ICs），通常用於各種電子產品，如計算機和移動電話。CENTURA還用於生產半導體光電探測器和顯示技術，如OLED、AMOLED等平板顯示技術。反應堆采用精確的基板處理技術，由機器人和索引系統組成，允許精確、自動地處理尺寸在0.5至12英寸範圍內的基板。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA提供的精確處理允許精確蝕刻和薄膜沈積,而不會對基板造成任何損壞。該單元還利用高級診斷程序包,該程序包允許實時監視流程,並在必要時自動調整流程。該機還配備了一系列先進的控制軟件，可用於各種應用的精密沈積和蝕刻控制。這樣可以準確控制沈積過程以及精確的蝕刻和沈積速率，以確保過程的穩定性。該軟件還允許精確和可重復的層輪廓,以確保精確的薄膜沈積和蝕刻結果。AMAT CENTURA是最先進、最可靠的化學和物理氣相沈積（CVD/PVD）工具。它具有各種基材尺寸的高速和高精度薄膜沈積工藝，使其成為世界上許多半導體制造設施的首選資產。該型號的精確操控和先進的控制技術使其成為市場上最可靠、最準確的系統之一。
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