二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9293686 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種高密度等離子體（HDP）反應器，利用高頻、交流電（AC）和強烈、熱化的H2等離子體的獨特組合，制造出高可靠性、高性能的晶圓。AMAT CENTURA HDP反應堆采用大面積、多晶片支撐平臺與高溫陶瓷加熱系統相結合，創建了一個能夠實現超窄臨界尺寸並同時沈積先進材料的工藝窗口。該反應堆具有快速熱循環的快速工藝優化，具有可調氣流能力和先進的工藝監測。APPLIED MATERIALS CENTURA REACTOR also features furns vacuum chamber to reminious aberrations to samply, as with chamber with various pressure and temper that can反應堆具有獨特的多晶片負載鎖區，可容納直徑可達300 mm的晶片尺寸，也使使用者能夠單批裝卸多個晶片。此外，特殊的靜電卡盤和主動穩定提供了無與倫比的均勻性，以最小的過程開銷最大程度地提高產量。CENTURA反應器具有應用任何所需等離子體工藝進行定時和蝕刻的靈活性。它使用戶能夠使用具有不同氣體混合、壓力和射頻功率水平的特定配方來產生不同的結構。它還提供有效的蝕刻深度、高各向異性和低表面粗糙度。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA發動機是一種交流耦合電感耦合等離子體（ICP）源,適用於矽和復合半導體材料的等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）和蝕刻工藝。AMAT CENTURA反應堆中的ICP源提供了非常高密度的等離子體，也可以進行調諧，使每個晶片跨4英寸和12英寸晶片量提供良好的均勻性。應用材料CENTURA反應堆利用獨特的多晶圓負載鎖定區,最大限度地減少晶圓對晶圓的不均勻性,並最大限度地提高工藝數據、吞吐量和盈利能力。它還具有自動腔室進入能力，無需在操作過程中打開腔室，確保工藝參數保持穩定。此外，針對晶圓面積和均勻性對CENTURA反應堆獨特的多晶圓支撐平臺進行了優化，顯著提高了產量和吞吐量。最後，AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反應器是要求蝕刻、沈積和工藝優化的理想解決方案。AMAT CENTURA反應堆具有高性能和先進的特性，可以為廣泛的應用提供超高速處理。APPLIED MATERIALS CENTURA反應堆具有廣泛的工藝可擴展性、易於使用的配方和高密度等離子體,是應對極端工藝挑戰的終極工具。