二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9386335 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9386335
晶圓大小: 12"
Etcher, 12" (2) Minos Carina Axiom.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor是先進沈積設備和材料管理能力的結合,為半導體晶圓制造提供獨特的化學氣相沈積(CVD)工藝和設備解決方案。AMAT CENTURA是一個模塊化的多用途系統,能夠達到92%的全晶圓制造生產率。應用材料CENTURA反應器由陰極和陽極兩個主要部件組成.陰極是CVD沈積的主要來源,由氣體入口、反應室和氣體排氣口組成。陽極充當電子源,而反應室則用於從反應物氣體中生成等離子體,然後將其推進到晶圓表面。氣體入口控制反應物氣體的流動,允許精確控制CVD過程。CENTURA Reactor具有廣泛的功能,允許生產各種芯片級器件,如互連、擴散區域、內存合金特性和其他特性。它還具有沈積鋁、鎳等材料薄膜的能力。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor也可以進行晶圓後處理,如化學機械拋光、擴散清潔和圖樣化。AMAT CENTURA Reactor的單晶片處理單元使其能夠以高速單程完成CVD工藝的所有步驟,提高生產效率和生產率。SPC(統計過程控制)軟件能夠精確控制CVD過程,確保可重現的結果和優異的產量。APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor設計為在全自動真空機中運行,確保過程的可靠性、重復性和再現。該工具允許晶圓和多個生產站點之間有效地共享配方和工藝信息,從而提高效率和吞吐量。CENTURA反應堆還具有在混合反應堆環境中運行的能力,允許與同一資產中的其他反應堆一起使用。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor是一個功能強大、用途廣泛的模型,提供了對CVD工藝的完全控制,使其能夠生產各種復雜的設備。它是半導體器件制造商不可或缺的工具,因為它提供了出色的產量、高生產速度和低運營成本。該設備非常適合大容量晶圓制造,是芯片級設備的理想解決方案。
還沒有評論