二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9409984 待售
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ID: 9409984
晶圓大小: 6"
優質的: 1998
Etcher, 6"
Chiller
RF Generator rack
Controller rack
(3) PC Racks
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反應器是一種針對半導體電路制造行業中廣泛使用的復雜蝕刻沈積工藝的綜合解決方案。反應堆的特點是劑量率高,對各種工藝參數的精確控制,以及利用特種氣體或氣體組合進行沈積、蝕刻和清洗。反應堆有一個封閉的腔室,設計最大限度的均勻性和精確蝕刻。它利用了多種氣體,如氧氣、氮氣和氙氣,以控制蝕刻區的溫度、壓力、厚度和表面質量。加工氣體可直接從反應堆儲存和分配,系統最多有10條集成氣體管線。例如,Argon-oxygen混合物能夠蝕刻鎢和鋁膜。密室設計也顯著減少了顆粒沈積和汙染。與其他設計相比,這是一個主要優勢,因為發生的汙染會對產品的均勻性和產量產生不利影響。Human Machine Interface (HMI)具有大型觸摸屏,可簡化流程交互,並增加較不先進的蝕刻系統無法獲得的控制和準確性。除了其精密的控制外,AMAT CENTURA反應堆還具有傳感器、循環器和控制器的組合。這允許將不同的氣體組合用於蝕刻或沈積,並用於準確控制過程變量。先進的材料分析系統(MAS)允許快速可靠的診斷。這是實時執行的,意味著可以立即進行表征,並且可以相應地調整過程。MAS還具有內置晶圓映射功能,不僅可以測量特征的寬度,還可以測量其側壁角度。總之,APPLIED MATERIALS CENTURA反應堆為半導體制造業的蝕刻元件提供了一個功能強大、用途廣泛、精度高的系統。系統的靈敏度允許對各種參數進行精確控制,從而確保一個始終如一的高質量產品。反應堆還具有創新和先進的HMI,簡化了產品的應用和特性。最後,傳感器、循環器和控制器的組合實現了一個直觀和一致的過程,這有助於確保一致的產量和產品質量。
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