二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9412368 待售
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ID: 9412368
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Etcher, 12"
CIM: SECS / GEM
Process: RTP
Factory interface: (3) FOUPs
(3) Vacuum pumps
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一種先進的半導體制造和薄膜沈積工藝系統。它由一個集成反應堆和集成過程控制器組成,提供對溫度、壓力、沈積速率和其他相關參數的精確控制。AMAT CENTURA可用於制造小分子、大分子和薄膜。反應器由一個石英圓筒組成,封閉在一個圓柱形真空室內。石英圓柱體包含多個與單個中心陰極對齊的獨立鉆孔。這種布置允許在中央陰極和毛刺孔之間形成均勻的電場,便於精確控制沈積過程。真空室是引入過程氣體並進行反應的地方。腔室頂部有一個窗口,通過該窗口可以使用各種光學探測技術來觀察和控制過程。腔室底部有靜電卡盤,在加工過程中用於固定基片。APPLIED MATERIALS CENTURA具有強大的集成過程控制器,可精確控制溫度、壓力、射頻功率和其他相關參數。圖形用戶界面可用於設置過程參數以及查看生成的實驗數據。過程控制器還包括一個自動過程調整系統,使CENTURA能夠自動調整參數,以達到最優的過程性能。該工藝氣體通過一組管道和閥門引入真空室,具體取決於所使用的工藝類型。例如在氧化矽的沈積中,通常使用矽烷和氮。壓力控制器用於調節引入腔室的過程氣體量,其範圍從幾毫巴到幾百毫巴不等。在沈積過程中,采用了兩種腔室濺射源-感應耦合等離子體(ICP)和直流磁控管濺射.射頻或直流電源用於在目標材料和基板之間創建電場。這種電場產生離子,然後將材料轉移到基板表面。過程完成後,將從AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA卸載基板,然後該過程自動恢復為待機模式。AMAT CENTURA是一種廣泛應用於半導體制造和薄膜沈積工藝的通用且高度可靠的系統。其集成過程控制器提供對溫度、壓力、沈積速率和其他相關參數的精確控制。廣泛用於制造小分子、大分子、薄膜等各種工業應用。
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