二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 Mark II #9387879 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 Mark II是一種高性能反應器，旨在使薄膜沈積過程更簡單、效率更高。腔室的設計結合了單晶片和批處理能力以及對過程的自動控制，以確保可靠的結果。它提供了各種各樣的工藝選擇，包括化學氣相沈積（CVD）、物理氣相沈積（PVD）和原子層沈積（ALD）。商會最大限度地提高吞吐量和質量，同時減少維護和工藝周期時間。它具有高效的處理體系結構，允許同時在多個基質上均勻沈積。該室由低壓加工室組成，配有溫度控制和沈積板。它還包括一個過程控制設備，允許用戶定制過程配方和監控處理參數。商會可用來存放各種材料。其溫度範圍為30-1000攝氏度，能夠處理揮發性和非揮發性成分。腔室還提供跨多層的均勻膜沈積，允許精確的材料分層。除了材料的均勻沈積外，商會還設有強大的清潔系統。該單元確保腔室的所有部件都沒有汙染物。它還包括一個Catalyst Enhanced Oxidation machine，允許在室內分解有機材料。Chamber可用於多種應用，如生產半導體、存儲器和光電子。也適用於生產多種其他薄膜，如塗料、屏障、電絕緣等。腔室的多功能性允許使用者同時處理多種基板，使其成為大規模生產的理想選擇。最後，該腔室是為長期操作而設計的。它具有一系列可靠性功能,例如自動晶片加載和卸載,可減少操作員的幹預並簡化維護程序。這樣可確保最小停機時間,並確保腔室在未來數年內保持峰值狀態。